[发明专利]一种掩模工艺用多层上料盒

权利要求书

1.一种掩模工艺用多层上料盒，包括掩模工艺用上料盒盒体(4)，其特征在于：所述掩模工艺用上料盒盒体(4)的前表面设置有盒体挡片(1)，且所述掩模工艺用上料盒盒体(4)的内侧分别开设有两个下掩膜版放置腔(2)和两个上掩膜版放置腔(3)，每个所述下掩膜版放置腔(2)均位于上掩膜版放置腔(3)的正下方。

2.根据权利要求1所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：所述盒体挡片(1)与掩模工艺用上料盒盒体(4)之间通过铰轴铰接，且所述盒体挡片(1)呈L型结构。

3.根据权利要求1所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：所述掩模工艺用上料盒盒体(4)的上表面固定安装有下置固定板(5)，所述下置固定板(5)的顶部固定安装有上置固定板(6)。

4.根据权利要求3所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：所述下置固定板(5)与上置固定板(6)为一体成型结构，且所述下置固定板(5)呈T型结构，所述上置固定板(6)呈L型结构。

5.根据权利要求1所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：所述上掩膜版放置腔(3)兼容6寸掩模版，其尺寸为15.24cm*15.24cm。

6.根据权利要求1所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：所述下掩膜版放置腔(2)兼容5寸掩模版，其尺寸为12.7cm*12.7cm。

7.根据权利要求1所述的一种掩模工艺用多层上料盒，其特征在于：两个所述上掩膜版放置腔(3)的高度为3.5cm，两个所述下掩膜版放置腔(2)的高度为3.5cm，且相邻两个所述下掩膜版放置腔(2)与上掩膜版放置腔(3)的高度为3.5cm。