[发明专利]增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法有效
申请号: | 201911394191.3 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN111690401B | 公开(公告)日: | 2022-08-05 |
发明(设计)人: | 杨绪勇;孙中将;曹璠;王胜 | 申请(专利权)人: | 上海大学 |
主分类号: | C09K11/02 | 分类号: | C09K11/02;C09K11/70;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y40/00 |
代理公司: | 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 | 代理人: | 顾勇华 |
地址: | 200444*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 增大 磷化 量子 发光 尺寸 制备 方法 | ||
本发明公开了一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,首先制备均匀的铟前驱体溶液并配置相应比例的磷前驱体;然后在第一温度下向铟前驱体溶液中加入部分三(三甲基硅基)膦;再进行升温过程中,温度到达第二温度时加入剩余的三(三甲基硅基)膦;然后加入合成壳层所需要的前体物质并调至第三温度,形成具有壳层包覆的磷化铟量子点。本发明方法通过分比例加入磷源的方式,能够实现在不改变In:P摩尔比的前提下而有效增大量子点的核尺寸,使量子点的发光效率有了显著的提高,尺寸分布更加均匀,使量子点的发光效率有了显著的提高,对于InP量子点的使用和发展具有非常重要的意义。
技术领域
本发明涉及一种量子点的制备方法,特别是涉及一种核壳结构量子点的制备方法,应用于半导体材料制备工艺技术领域。
背景技术
磷化铟(InP)量子点作为一种新型半导体纳米材料,具有低毒性(不含铅、镉等有毒重金属元素),并且有着与镉系材料相媲美的光学特性,例如单色性好,带隙可调,稳定性和量子产率高。虽然目前已报道的InP相关核壳结构量子点量子产率已经高达70%以上,然而由于其粒径较小,通常小于6nm,在非辐射能量转移的影响下,量子点成膜后量子产率急剧下降,导致注入到量子点发光层的载流子辐射复合几率降低,这是影响InP基发光二极管效率的主要因素之一。因此,发展一种能够增大InP量子点核尺寸同时保持InP量子点优越光学性能的方法,对于InP量子点的使用和发展具有非常重要的意义,成为亟待解决的技术问题。
发明内容
为了解决现有技术问题,本发明的目的在于克服已有技术存在的不足,提供一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,能有效增加磷化铟量子点核尺寸,获得粒径大于6nm的磷化铟量子点。本发明通过分比例加入磷源的方式,能够实现在不改变In:P摩尔比的前提下而有效增大量子点的核尺寸,提高了InP量子点的光学性能。
为达到上述发明创造目的,本发明采用如下技术方案:
一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,包括以下步骤:
a.原料准备:
制备均匀的铟前驱体溶液,并制备磷前驱体溶液,备用;
b.低温制备磷化铟纳米晶核:
在20-60℃的第一温度下,向在所述步骤a中制备的铟前驱体溶液中加入一部分在所述步骤a中制备的磷前驱体溶液;然升温至60-150℃的第二温度,加入剩余的另一部分在所述步骤a中制备的磷前驱体溶液,并使混合溶液保持至少1h,形成磷化铟纳米晶核,得到磷化铟纳米晶核产物溶液;
c.高温制备外部壳层:
降温到室温-50℃下,向在所述步骤b中制备的磷化铟纳米晶核产物溶液中,继续加入合成外部壳层所需要的前体物质,并调至230-310℃的第三温度,形成具有壳层包覆的磷化铟量子点。
作为本发明优选的技术方案,在所述步骤a中,通入氮气、氩气或者其它惰性气体,将铟前驱体、酸配体和非配位溶剂混合,升温至第二温度,排除水和氧保持一段时间,直到形成均匀的铟前驱体溶液,然后进行降温,备用。所述铟前驱体优选采用甲磺酸铟、醋酸铟、乙酰丙酮铟、油酸铟、油胺铟中的任意一种铟源材料或者任意几种铟源材料的混合材料。所述酸配体优选采用十二酸、十四酸、十六酸、十八酸、二十酸中的任意一种酸或者任意几种的混合酸。所述非配位溶剂优选采用十四烷、十六烷、十八烷、十八烯、石蜡油中的任意一种溶剂或者任意几种的混合溶剂。优选铟前驱体、酸配体和非配位溶剂的混合比例为0.15mmol:0.45mmol:10ml的比例,并通入氮气进行加热至不低于120℃保持至少1h。
优选采用三(三甲基硅基)膦作为磷源,制备磷前驱体溶液,备用。
作为本发明优选的技术方案,在所述步骤c中,所述外部壳层为包覆在所述步骤b中制备的磷化铟纳米晶核外部的ZnSe材料的外部壳层。优选采用硒-三辛基膦(Se-TOP)作为Se源材料,利用Se源材料作为前体物质。
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