[发明专利]增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法有效

专利信息
申请号: 201911394191.3 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN111690401B 公开(公告)日: 2022-08-05
发明(设计)人: 杨绪勇;孙中将;曹璠;王胜 申请(专利权)人: 上海大学
主分类号: C09K11/02 分类号: C09K11/02;C09K11/70;C09K11/88;B82Y20/00;B82Y40/00
代理公司: 上海上大专利事务所(普通合伙) 31205 代理人: 顾勇华
地址: 200444*** 国省代码: 上海;31
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 增大 磷化 量子 发光 尺寸 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,首先制备均匀的铟前驱体溶液并配置相应比例的磷前驱体;然后在第一温度下向铟前驱体溶液中加入部分三(三甲基硅基)膦;再进行升温过程中,温度到达第二温度时加入剩余的三(三甲基硅基)膦;然后加入合成壳层所需要的前体物质并调至第三温度,形成具有壳层包覆的磷化铟量子点。本发明方法通过分比例加入磷源的方式,能够实现在不改变In:P摩尔比的前提下而有效增大量子点的核尺寸,使量子点的发光效率有了显著的提高,尺寸分布更加均匀,使量子点的发光效率有了显著的提高,对于InP量子点的使用和发展具有非常重要的意义。

技术领域

本发明涉及一种量子点的制备方法,特别是涉及一种核壳结构量子点的制备方法,应用于半导体材料制备工艺技术领域。

背景技术

磷化铟(InP)量子点作为一种新型半导体纳米材料,具有低毒性(不含铅、镉等有毒重金属元素),并且有着与镉系材料相媲美的光学特性,例如单色性好,带隙可调,稳定性和量子产率高。虽然目前已报道的InP相关核壳结构量子点量子产率已经高达70%以上,然而由于其粒径较小,通常小于6nm,在非辐射能量转移的影响下,量子点成膜后量子产率急剧下降,导致注入到量子点发光层的载流子辐射复合几率降低,这是影响InP基发光二极管效率的主要因素之一。因此,发展一种能够增大InP量子点核尺寸同时保持InP量子点优越光学性能的方法,对于InP量子点的使用和发展具有非常重要的意义,成为亟待解决的技术问题。

发明内容

为了解决现有技术问题,本发明的目的在于克服已有技术存在的不足,提供一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,能有效增加磷化铟量子点核尺寸,获得粒径大于6nm的磷化铟量子点。本发明通过分比例加入磷源的方式,能够实现在不改变In:P摩尔比的前提下而有效增大量子点的核尺寸,提高了InP量子点的光学性能。

为达到上述发明创造目的,本发明采用如下技术方案:

一种增大磷化铟量子点发光核尺寸的制备方法,包括以下步骤:

a.原料准备:

制备均匀的铟前驱体溶液,并制备磷前驱体溶液,备用;

b.低温制备磷化铟纳米晶核:

在20-60℃的第一温度下,向在所述步骤a中制备的铟前驱体溶液中加入一部分在所述步骤a中制备的磷前驱体溶液;然升温至60-150℃的第二温度,加入剩余的另一部分在所述步骤a中制备的磷前驱体溶液,并使混合溶液保持至少1h,形成磷化铟纳米晶核,得到磷化铟纳米晶核产物溶液;

c.高温制备外部壳层:

降温到室温-50℃下,向在所述步骤b中制备的磷化铟纳米晶核产物溶液中,继续加入合成外部壳层所需要的前体物质,并调至230-310℃的第三温度,形成具有壳层包覆的磷化铟量子点。

作为本发明优选的技术方案,在所述步骤a中,通入氮气、氩气或者其它惰性气体,将铟前驱体、酸配体和非配位溶剂混合,升温至第二温度,排除水和氧保持一段时间,直到形成均匀的铟前驱体溶液,然后进行降温,备用。所述铟前驱体优选采用甲磺酸铟、醋酸铟、乙酰丙酮铟、油酸铟、油胺铟中的任意一种铟源材料或者任意几种铟源材料的混合材料。所述酸配体优选采用十二酸、十四酸、十六酸、十八酸、二十酸中的任意一种酸或者任意几种的混合酸。所述非配位溶剂优选采用十四烷、十六烷、十八烷、十八烯、石蜡油中的任意一种溶剂或者任意几种的混合溶剂。优选铟前驱体、酸配体和非配位溶剂的混合比例为0.15mmol:0.45mmol:10ml的比例,并通入氮气进行加热至不低于120℃保持至少1h。

优选采用三(三甲基硅基)膦作为磷源,制备磷前驱体溶液,备用。

作为本发明优选的技术方案,在所述步骤c中,所述外部壳层为包覆在所述步骤b中制备的磷化铟纳米晶核外部的ZnSe材料的外部壳层。优选采用硒-三辛基膦(Se-TOP)作为Se源材料,利用Se源材料作为前体物质。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海大学,未经上海大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911394191.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top