[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
申请号: | 201911397746.X | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN113122139A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 任晓明;贾长征;李守田;王志宏;王雨春 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02;H01L21/306 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;王芳 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
1.一种化学机械抛光液,包括氧化铈、硫酸铈和pH调节剂。
2.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述pH调节剂选自氢氧化钾、硫酸中的一种或多种。
3.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述氧化铈的质量百分比浓度为0.1~1%。
4.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述硫酸铈的质量百分比浓度为0.8~6.5%。
5.如权利要求4所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述硫酸铈的质量百分比浓度为0.8~2%。
6.如权利要求1所述的化学机械抛光液,其特征在于,
所述化学机械抛光液的pH值为0.6~1.3。
7.一种化学抛光液的使用方法,其特征在于,
如权利要求1~6中任一项所述化学机械抛光液用于无定形碳材料的化学抛光。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子科技(上海)股份有限公司,未经安集微电子科技(上海)股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911397746.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种西他列汀杂质及该杂质的去除方法和应用
- 下一篇:一种单晶片的湿法清洗方法