[发明专利]一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺有效

专利信息
申请号: 201911401587.6 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111515422B 公开(公告)日: 2022-11-25
发明(设计)人: 王小明;张小龙 申请(专利权)人: 南通杰卡博工程机械有限公司
主分类号: B23B35/00 分类号: B23B35/00;B23B39/16;B23B47/00
代理公司: 北京驰纳智财知识产权代理事务所(普通合伙) 11367 代理人: 蒋路帆
地址: 226000 江苏省南通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 即钻即 回填 型光式环模 钻孔 工艺
【权利要求书】:

1.一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:包括以下步骤:

S1、首先根据所需的环模的规格选取合适的环模半成品;

S2、将环模半成品固定放置到八工位数控深孔枪钻的定位圆台上;

S3、控制八工位数控深孔枪钻的八个工位同步工作对环模半成品进行钻孔,得到模孔;

S4、钻孔时钻头穿过环模并进入到定位圆台上端的气胀回填层(2)内,使得气胀回填层(2)上产生与模孔相对应的孔,此时再控制钻头从气胀回填层(2)和环模内退出;

S5、钻头退出的同时,向定位圆台内充气,使定位圆台上的气胀回填层(2)即刻回填,在模孔内形成定扩散柱;

S6、此时八工位数控深孔枪钻控制定位圆台转动带动环模转动,进行下一次钻孔,直至环模上完全钻孔结束,得到光式环模。

2.根据权利要求1所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述环模下端开凿有两个对称的限位槽(31),所述定位圆台上端固定连接有两个对称的限位块(32),所述限位槽(31)和限位块(32)相互匹配。

3.根据权利要求1所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述定位圆台包括钻孔平台(1),所述气胀回填层(2)连接在钻孔平台(1)上端,且气胀回填层(2)与环模相匹配。

4.根据权利要求3所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述气胀回填层(2)包括充气层(21)、形变回填层(22)、外承载层(23)以及内承载层(5),所述外承载层(23)和内承载层(5)均与钻孔平台(1)固定连接,所述充气层(21)设置在内承载层(5)的内侧,所述外承载层(23)位于最外侧,且形变回填层(22)填充在外承载层(23)和内承载层(5)之间,所述充气层(21)外端固定连接有与外界相通的通气管。

5.根据权利要求4所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述环模半成品由不锈钢锻件加工而成,不锈钢锻件选用4Cr13,所述外承载层(23)硬度小于环模硬度。

6.根据权利要求4所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述形变回填层(22)为软质弹性材质,所述形变回填层(22)选用P4U或D3O中的一种或两种。

7.根据权利要求4所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述内承载层(5)外表面包裹有气膨胀层(7),所述内承载层(5)外端还固定连接有多个均匀分布的封堵柱,所述封堵柱贯穿气膨胀层(7)。

8.根据权利要求7所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述气膨胀层(7)为弹性密封材质,所述内承载层(5)为多孔材质,且气膨胀层(7)与内承载层(5)外表面之间呈挤压接触。

9.根据权利要求7所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述封堵柱包括与内承载层(5)固定连接的电动推杆(62)以及连接在电动推杆(62)端部的定位封锁球(61),所述电动推杆(62)与八工位数控深孔枪钻信号连接。

10.根据权利要求9所述的一种即钻即回填型光式环模钻孔工艺,其特征在于:所述定位封锁球(61)直径大于模孔的内径,且定位封锁球(61)为光滑球面结构。

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