[发明专利]一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液在审

专利信息
申请号: 201911402493.0 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN113130291A 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 王雷雷;何华锋;王晨;郁夏盈;李星;史经深;孙金涛 申请(专利权)人: 安集微电子科技(上海)股份有限公司
主分类号: H01L21/02 分类号: H01L21/02;C11D1/00;C11D1/12
代理公司: 北京大成律师事务所 11352 代理人: 李佳铭;王芳
地址: 201201 上海市浦东新区华东路*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 清洗 晶圆清 洗刷
【权利要求书】:

1.一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,包括碱、去离子水、阴离子表面活性剂、以及非离子表面活性剂。

2.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱为有机碱和/或无机碱。

3.如权利要求2所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述有机碱为三甲基苯基氢氧化铵和/或三乙胺。

4.如权利要求2所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述无机碱是氨水和/或碳酸铵。

5.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱的质量浓度是0.1-3%。

6.如权利要求5所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱的质量浓度是1-2%。

7.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂为磺酸盐和/或硫酸酯盐。

8.如权利要求7所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述磺酸盐为十二烷基苯磺酸钠、α-烯烃磺酸钠、丁二酸二异辛酯磺酸钠、三苯乙烯苯酚醚磺酸钠中的一种或多种。

9.如权利要求7所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述硫酸酯盐为硫酸单(2-乙基己基)酯钠盐、十二烷基硫酸铵、油酸正丁酯硫酸酯钠盐中的一种或多种。

10.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂的质量百分数是0.001-3%。

11.如权利要求10所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂的质量浓度是0.005-0.5%。

12.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂为烷基醇/酚聚氧乙烯醚和/或聚乙二醇。

13.如权利要求12所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,其中,所述烷基醇/酚聚氧乙烯醚的分子式为RO(CH2CH2O)nH,其中,RO-为C10~C18的伯醇或仲醇或烷基酚的缩合产物,n为3、5、7或9。

14.如权利要求13所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述烷基醇/酚聚氧乙烯醚为十二烷基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-3、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-5、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-7、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9中的一种或多种。

15.如权利要求12所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述聚乙二醇的分子式为HOCH2(CH2OCH2)nCH2OH,其中,n大于4,其中,所述聚乙二醇的平均分子量为200~7000。

16.如权利要求15所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述聚乙二醇的平均分子量为2000。

17.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂的质量浓度是0.001-3%。

18.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂的质量浓度是0.005-0.1%。

19.如权利要求1-18中任一所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述晶圆清洗刷为聚乙烯醇清洗刷。

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