[发明专利]一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液在审
申请号: | 201911402493.0 | 申请日: | 2019-12-30 |
公开(公告)号: | CN113130291A | 公开(公告)日: | 2021-07-16 |
发明(设计)人: | 王雷雷;何华锋;王晨;郁夏盈;李星;史经深;孙金涛 | 申请(专利权)人: | 安集微电子科技(上海)股份有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;C11D1/00;C11D1/12 |
代理公司: | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人: | 李佳铭;王芳 |
地址: | 201201 上海市浦东新区华东路*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 清洗 晶圆清 洗刷 | ||
1.一种用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,包括碱、去离子水、阴离子表面活性剂、以及非离子表面活性剂。
2.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱为有机碱和/或无机碱。
3.如权利要求2所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述有机碱为三甲基苯基氢氧化铵和/或三乙胺。
4.如权利要求2所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述无机碱是氨水和/或碳酸铵。
5.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱的质量浓度是0.1-3%。
6.如权利要求5所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述碱的质量浓度是1-2%。
7.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂为磺酸盐和/或硫酸酯盐。
8.如权利要求7所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述磺酸盐为十二烷基苯磺酸钠、α-烯烃磺酸钠、丁二酸二异辛酯磺酸钠、三苯乙烯苯酚醚磺酸钠中的一种或多种。
9.如权利要求7所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述硫酸酯盐为硫酸单(2-乙基己基)酯钠盐、十二烷基硫酸铵、油酸正丁酯硫酸酯钠盐中的一种或多种。
10.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂的质量百分数是0.001-3%。
11.如权利要求10所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述阴离子表面活性剂的质量浓度是0.005-0.5%。
12.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂为烷基醇/酚聚氧乙烯醚和/或聚乙二醇。
13.如权利要求12所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,其中,所述烷基醇/酚聚氧乙烯醚的分子式为RO(CH2CH2O)nH,其中,RO-为C10~C18的伯醇或仲醇或烷基酚的缩合产物,n为3、5、7或9。
14.如权利要求13所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述烷基醇/酚聚氧乙烯醚为十二烷基酚聚氧乙烯醚、壬基酚聚氧乙烯醚、辛基酚聚氧乙烯醚、二壬基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-3、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-5、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-7、脂肪醇聚氧乙烯醚AEO-9中的一种或多种。
15.如权利要求12所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述聚乙二醇的分子式为HOCH2(CH2OCH2)nCH2OH,其中,n大于4,其中,所述聚乙二醇的平均分子量为200~7000。
16.如权利要求15所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述聚乙二醇的平均分子量为2000。
17.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂的质量浓度是0.001-3%。
18.如权利要求1所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述非离子表面活性剂的质量浓度是0.005-0.1%。
19.如权利要求1-18中任一所述的用于清洗晶圆清洗刷的水基清洗液,其特征在于,所述晶圆清洗刷为聚乙烯醇清洗刷。
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