[发明专利]一种多回路清洗控制装置

说明书

本发明公开了一种多回路清洗控制装置，涉及管路清洗技术领域。该装置的驱动件的一端通过连接管路与储存箱相连且另一端连接有主管路，主管路的一侧连接有调节管路，调节管路上设有第一调节阀且另一端与储存箱相连，驱动件用于将储存箱内的清洁介质输送至主管路，调节管路用于对主管路内的清洁介质分流以减小主管路的压力，清洗分路的一端与主管路相连，另一端用于连接待清洗系统，并用于接收主管路输送的清洁介质后对待清洗系统进行清洗，控制单元用于监控主管路的压力和流量并调节第一调节阀的开度大小，以控制各清洗分路的压力和流量。本发明提供的多回路清洗控制装置，能够精准地控制各清洗分路清洗流量及压力实现多条清洗分路的串洗。

技术领域

本发明涉及管路清洗技术领域，具体涉及一种多回路清洗控制装置。

背景技术

核电站或大型船舶由于体系庞大，内部系统较多且结构复杂，有些系统对清洁度会有一定的要求，运行前或运行一段时间后需要进行清洗，以保障后续的正常运行，当它们的清洁度不满足要求时，时间长了之后可能会腐蚀系统的管路，或者系统内有杂质时，杂质可能进入设备狭小部位，对设备造成损伤，从而影响到整个系统的运行安全性，维修费时费力，成本较高。

一般清洗装置的液压泵站由液压清洗泵、油箱、滤器及相关管路集成于一体，能够对系统提供液压油或滑油，供液压系统或滑油系统连续串洗，其优点是可以为系统连续提供串洗介质，缺点是缺少调节系统，且无法分出多路供多个系统实现共同串洗，且无法控制支路流量及压力，另外，目前的清洗装置无法很好地实现清洗介质的循环利用。

发明内容

针对现有技术中存在的缺陷，本发明的目的在于提供一种多回路清洗控制装置，能够精准地控制各清洗分路清洗流量及压力实现多条清洗分路的串洗。

为达到以上目的，本发明采取的技术方案是：

储存单元，其包括装有清洁介质的储存箱和至少一驱动件，所述驱动件的一端通过连接管路与所述储存箱相连且另一端连接有主管路，所述主管路的一侧连接有调节管路，所述调节管路上设有第一调节阀且远离所述主管路的一端与所述储存箱相连，所述驱动件用于将所述储存箱内的清洁介质输送至所述主管路，所述调节管路用于对所述主管路内的清洁介质分流以减小所述主管路的压力；

多条并联的清洗分路，所述清洗分路的一端与所述主管路相连，另一端用于连接待清洗系统，所述清洗分路用于接收所述主管路输送的清洁介质后对所述待清洗系统进行清洗；

控制单元，其与所述第一调节阀相连，所述控制单元用于监控所述主管路的压力和流量并根据该压力和流量调节所述第一调节阀的开度大小，以控制各清洗分路的压力和流量。

在上述技术方案的基础上，所述多回路清洗控制装置还包括回流管路，所述回流管路的一端与所述储存箱相连，另一端用于连接所述待清洗系统，所述回流管路用于将清洗过所述待清洗系统的清洁介质重新输送至所述储存箱内，以构成闭合的循环回路。

在上述技术方案的基础上，所述多回路清洗控制装置还包括过滤组件，所述过滤组件包括：

粗过滤件，其设于所述回流管路靠近所述储存箱的一端，所述粗过滤件的旁侧并联有一压差表；

至少一精过滤件，其设于所述主管路靠近所述驱动件的一端且位于所述调节管路的下游，所述精过滤件的旁侧也并联有一压差表。

在上述技术方案的基础上，所述精过滤件的数量为两个，两个所述精过滤件相互并联，且每一精过滤件的两侧并联管路上均设有截止阀。

在上述技术方案的基础上，所述主管路靠近所述精过滤件的管段处设有总压力传感器和位于所述总压力传感器下游的总流量计，所述总压力传感器和总流量计均与所述控制单元相连。