[发明专利]一种晶圆支撑装置和晶圆清洗装置

权利要求书

1.一种晶圆支撑装置，其特征在于，包括支撑组件，所述支撑组件移动以水平支撑晶圆；至少一支撑组件可相对于其移动方向摆动以调节支撑组件的位置。

2.如权利要求1所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑组件包括位于其上的支撑辊，所述支撑组件摆动以调节所述支撑辊与晶圆外缘的间隙。

3.如权利要求1所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑组件包括回转组件，所述回转组件使得支撑组件自适应摆动。

4.如权利要求1所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑组件配置有主动支撑辊和/或从动支撑辊，所述支撑组件自适应摆动以调节主动支撑辊和/或从动支撑辊的位置。

5.如权利要求1所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑组件包括支撑板，其上设置有主动支撑辊和从动支撑辊；所述支撑板通过回转组件与移动组件连接，所述移动组件带动支撑板及其上的支撑辊相向移动以水平支撑晶圆。

6.如权利要求1所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑组件包括支撑板、主动支撑辊和从动支撑辊及回转组件，所述主动支撑辊和/或从动支撑辊通过回转组件与支撑板连接，所述回转组件使得支撑辊自适应摆动以调节其与晶圆外缘的间隙。

7.如权利要求5所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述回转组件包括连接轴和套筒，所述连接轴的一端与支撑组件连接，所述连接轴的另一端枢接于设置在移动组件的套筒。

8.如权利要求2所述的晶圆支撑装置，其特征在于，所述支撑辊包括连接部和位于连接部顶部的支撑部，所述支撑部包括上支撑体、垫圈及下支撑体，所述垫圈设置于上支撑体与下支撑体形成的凹槽内；所述垫圈与上支撑体及下支撑体接触的外侧面和/或部分顶面设置有间隙。

9.一种晶圆清洗装置，其特征在于，包括权利要求1至8任一项所述的晶圆支撑装置，所述晶圆支撑装置水平支撑晶圆，所述晶圆的上表面和/或下表面设置有去除晶圆表面杂质的清洗刷。

10.如权利要求9所述的晶圆清洗装置，其特征在于，所述清洗刷非平行设置于水平支撑的晶圆的侧面。