[发明专利]一种等离子体刻蚀残留物清洗液

权利要求书

1.一种等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，包括氧化剂、pH调节剂、稳定剂、有机酸铵盐、金属缓蚀剂、以及水。

2.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述氧化剂的质量浓度为0.1wt％-30wt％。

3.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述氧化剂为H₂O₂、N-甲基吗啉氧化物、过氧化苯甲酰、过氧单硫酸四丁铵、臭氧、高锰酸、高氯酸、碘酸、高碘酸、过硫酸、过氧二硫酸铵、过乙酸、过氧化脲、硝酸、次氯酸铵、氯酸铵、碘酸铵、高氯酸铵、高碘酸铵、亚氯酸四甲铵、氯酸四甲铵、碘酸四甲铵、过硼酸四甲铵、高氯酸四甲铵、高碘酸四甲铵、过硫酸四甲铵、过氧乙酸、过氧苯甲酸、四氧嘧啶中的一种或多种。

4.如权利要求3所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述氧化剂为H₂O₂。

5.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述有机酸铵盐的质量浓度为0.01wt％-50wt％。

6.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述有机酸铵盐为甲酸铵、草酸铵、乳酸铵、酒石酸铵、柠檬酸三铵、乙酸铵、氨基甲酸铵、碳酸铵、苯甲酸铵、乙二胺四乙酸四铵、乙二胺四乙酸三铵、乙二胺四乙酸二铵、琥珀酸铵、1-H-吡唑-3-甲酸铵、丙二酸铵、己二酸铵、亚氨基二乙酸铵中的一种或多种。

7.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述pH调节剂的质量浓度为0.1wt％-20wt％。

8.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述pH调节剂为碱性调节剂。

9.如权利要求8所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述pH调节剂为季胺氢氧化物、有机胺、有机醇胺中的一种或多种。

10.如权利要求9所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述季胺氢氧化物为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、三甲基苯基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵、苄基三乙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四丁基氢氧化磷、胆碱氢氧化物、氢氧化铵、十二烷基三甲基氢氧化铵、十六烷基三甲基氢氧化铵中的一种或多种。

11.如权利要求9所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述有机胺为单乙胺、二乙胺、三乙胺、三丙胺、N'N-二乙基乙二胺、羟乙基乙二胺、环己胺、1,2-丙二胺、五甲基二乙烯三胺中的一种或多种。

12.如权利要求9所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述有机醇胺为单乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、二甘醇胺、异丙醇胺、N-甲基乙醇胺中的一种或多种。

13.如权利要求9所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述pH调节剂为金属离子含量小于50ppb的碱性pH调节剂。

14.如权利要求1所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述稳定剂的质量浓度为0.05-1000ppm。

15.如权利要求14所述的等离子体刻蚀残留物清洗液，其特征在于，所述稳定剂的质量浓度为0.1-100ppm。