[发明专利]一种化学机械抛光液及其使用方法在审
| 申请号： | 201911409271.1 | 申请日： | 2019-12-31 |
| 公开（公告）号： | CN113122146A | 公开（公告）日： | 2021-07-16 |
| 发明（设计）人： | 马健;荆建芬;姚颖;周靖宇;杨俊雅;黄悦锐;蔡鑫元;陆弘毅;王雨春 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/768 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;王芳 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 及其 使用方法 | ||
1.一种化学机械抛光液，包括：复合研磨颗粒、氧化剂和水。
2.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述复合研磨颗粒为选自二氧化铈、二氧化钛、二氧化锰和三氧化二铝中的两种或多种金属氧化物相互包覆的复合氧化物颗粒。
3.根据权利要求2所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述复合研磨颗粒选自表面包覆三氧化二铝的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化锰的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化钛的二氧化铈颗粒，表面包覆三氧化二铝的二氧化铈颗粒，表面包覆二氧化锰和三氧化二铝的二氧化钛颗粒，表面包覆二氧化钛的二氧化锰颗粒，表面包覆二氧化钛的三氧化二铝颗粒中的一种或多种。
4.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述复合研磨颗粒的质量百分比浓度为0.1～10％。
5.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述复合研磨颗粒的粒径为50～500nm。
6.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述氧化剂选自氯酸盐、高氯酸盐、碘酸盐、高碘酸盐、高锰酸盐、双氧水、单过硫酸盐、过硫酸盐中的一种或多种。
7.根据权利要求6所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述氧化剂为高锰酸钾。
8.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述氧化剂的质量百分比浓度为0.01～1％。
9.根据权利要求1所述的化学机械抛光液，其特征在于，
所述化学机械抛光液的pH值为2～6。
10.一种化学机械抛光液的使用方法，其特征在于，
权利要求1～9中任一项所述的化学机械抛光液用于含碳材料的化学机械抛光。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911409271.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学防抖的摄像头模组和数码装置
- 下一篇：一种化学机械抛光液及其使用方法
