[发明专利]窗以及包括窗的显示设备

权利要求书

1.一种窗，包括：

基础层；以及

第一涂覆层，设置在所述基础层的第一表面上，

其中：

所述第一涂覆层是单个层；以及

所述第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物和二氧化硅，所述二氧化硅包括多孔二氧化硅和气相二氧化硅，以及

其中：

所述多孔二氧化硅和所述含氟的硅氧烷基化合物各自以从4wt％至7wt％的范围的量被包括；以及

所述气相二氧化硅以从0.1wt％至0.5wt％的范围的量被包括。

2.根据权利要求1所述的窗，其中：

所述多孔二氧化硅包括中空部；以及

所述中空部的直径是从30nm至60nm。

3.根据权利要求1所述的窗，其中，所述含氟的硅氧烷基化合物包括十七氟癸基三甲氧基硅烷。

4.根据权利要求1所述的窗，其中，所述第一涂覆层的端部沿所述基础层的一个表面倾斜。

5.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基础层包括：

第二表面，与所述第一表面重叠；

竖直表面，与所述第一表面和所述第二表面垂直；

第一倾斜表面，连接所述第一表面和所述竖直表面；以及

第二倾斜表面，连接所述第二表面和所述竖直表面。

6.根据权利要求5所述的窗，其中，所述第一涂覆层与所述第一倾斜表面重叠。

7.根据权利要求5所述的窗，其中，所述第一倾斜表面是弯曲表面。

8.一种显示设备，包括：

显示面板；以及

窗，与所述显示面板重叠，

其中，所述窗包括：

基础层；以及

第一涂覆层，设置在所述基础层上，

其中：

所述第一涂覆层是单个层；以及

所述第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅，以及

其中：

所述多孔二氧化硅和所述含氟的硅氧烷基化合物各自以从4wt％至7wt％的范围的量被包括；以及

所述气相二氧化硅以从0.1wt％至0.5wt％的范围的量被包括。

9.根据权利要求8所述的显示设备，其中，所述第一涂覆层的端部沿所述基础层的一个表面倾斜。