[发明专利]基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201911410058.2 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111134831A 公开(公告)日: 2020-05-12
发明(设计)人: 刘景全;洪雯 申请(专利权)人: 上海交通大学
主分类号: A61B18/02 分类号: A61B18/02
代理公司: 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 代理人: 徐红银;赵楠
地址: 200240 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 基于 蜿蜒 柔性 mems 延展 传感器 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器,其特征在于,包括可延展基底层、底部绝缘层、金属层和顶部绝缘层;其中,

所述可延展基底层位于结构最底层;

所述底部绝缘层设置于所述可延展基底层上;

所述金属层设置于所述底部绝缘层的上方;

所述顶部绝缘层设置于所述金属层的上方;

所述底部绝缘层、所述金属层和所述顶部绝缘层的形状呈蜿蜒状延伸,用以增强其延展性。

2.根据权利要求1所述的一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器,其特征在于,所述蜿蜒状为二阶蛇形线。

3.根据权利要求1所述的一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器,其特征在于,所述顶部绝缘层可根据需求进行图形化,将位于其下方的所述金属层局部裸露,使所述金属层局部裸露位置直接接触外界环境。

4.一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底上制作牺牲层;在所述牺牲层上方旋涂一层可延展性基底材料,得到可延展性基底层;

在得到所述可延展性基底层上沉积一层绝缘材料,得到底部绝缘层;

在所述底部绝缘层上溅射一层金属薄膜,得到金属层,然后图形化所述金属层,得到蜿蜒状的所述金属层;

在所述金属层的上方沉积一层绝缘材料,得到顶部绝缘层,然后在所述顶部绝缘层上制备掩模并图形化,利用掩模刻蚀图形化所述顶部绝缘层、所述底部绝缘层,得到蜿蜒状的所述底部绝缘层、所述顶部绝缘层;

溶解所述牺牲层,释放器件。

5.根据权利要求4所述一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器的制备方法,其特征在于,所述可延展性基底材料为聚二甲基硅氧烷。

6.根据权利要求4所述一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器的制备方法,其特征在于,所述绝缘材料为聚对二甲苯。

7.根据权利要求4所述一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器的制备方法,其特征在于,所述金属薄膜的材料为金。

8.根据权利要求4所述一种基于蜿蜒线的柔性MEMS可延展传感器的制备方法,其特征在于,所述牺牲层的材料为铝。

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