[发明专利]一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法

权利要求书

1.一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

S1、采用三层共挤技术，通过吸料风机将上层、下层、以及芯层的原料吸入料斗，再分别定量送入对应挤出机，上层挤出机的挤出温度为220-240℃，下层挤出机的挤出温度为220-240℃，中间芯层挤出机的挤出温度为240-260℃；经过塑化后，三层共同从模头挤出，模头的挤出温度为240-250℃；

S2、将三层共同挤出的熔体，分别通过激冷辊、水池快速冷却并定型为薄膜厚片；

S3、将薄膜厚片先经过纵向拉伸后，再经过横向拉伸，成为厚度均匀的薄膜粗品；所述纵向拉伸包括预热、拉伸、定型三个阶段，所述横向拉伸包括预热、拉伸、定型、以及冷却四个阶段；

S4、将薄膜粗品分别经过TDO冷却、牵引辊冷却和电晕处理后，最终收在大膜卷上；

S5、将大膜卷上的薄膜粗品，在时效架上经过一段时间的时效后，用分切机分切，即制得需要的105℃双面低温消光热封膜。

2.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，所述S1步骤中，上层挤出机的出口温度为230℃，下层挤出机的出口温度为230℃，芯层挤出机的出口温度为250℃。

3.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S1步骤中，所述模头的挤出温度为245℃。

4.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S1步骤中，所述上层、下层的原料均为低温热封消光料，中间芯层的原料为聚丙烯和抗静电剂。

5.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S2步骤中，所述激冷辊的温度为30-40℃，所述水池的温度为30-40℃。

6.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S2步骤中，所述激冷辊的温度为34℃，所述水池的温度为35℃。

7.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S3步骤中，所述纵向拉伸的各阶段温度条件为：预热(上112℃，下112℃)、拉伸(上100℃，下100℃)、定型(上120℃，下120℃)。

8.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S3步骤中，所述横向拉伸的各阶段温度条件为：预热(174℃-169℃)、拉伸(156℃)、定型(167℃)。

9.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S4步骤中，所述牵引辊的冷却温度为小于35℃。

10.根据权利要求1所述的一种105℃双面低温消光热封膜的制备方法，其特征在于，在S5步骤中，所述105℃双面低温消光热封膜，包括上层、下层、以及中间芯层，所述上层、下层分别设置在芯层的上下两面。