[发明专利]图像处理方法及装置、电子设备和存储介质在审

专利信息
申请号: 201911415910.5 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN111192218A 公开(公告)日: 2020-05-22
发明(设计)人: 叶鑫;王昊然;王甜甜;严琼 申请(专利权)人: 深圳市商汤科技有限公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00;G06T5/50
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 518054 广东省深圳市*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 图像 处理 方法 装置 电子设备 存储 介质
【权利要求书】:

1.一种图像处理方法,其特征在于,包括:

根据待处理图像得到第一图像;

根据所述待处理图像各像素点的像素值,得到所述待处理图像的掩码图像;

根据所述掩码图像对所述待处理图像及所述第一图像进行融合,得到去光晕图像。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述掩码图像包括亮度掩码图像;所述根据所述待处理图像各像素点的像素值,得到所述待处理图像的掩码图像,包括:

根据所述待处理图像中各像素点的像素值确定各像素点的亮度掩码值,其中,所述像素点的亮度掩码值与像素差值负相关,所述像素差值表示所述像素点的像素值与所述待处理图像的中间像素值的差值;

根据各像素点的所述亮度掩码值生成待处理图像的亮度掩码图像。

3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述掩码图像包括距离掩码图像;所述根据所述待处理图像各像素点的像素值,得到所述待处理图像的掩码图像,包括:

确定所述待处理图像中的高光像素点;

根据所述待处理图像中任一像素点到高光像素点的距离确定所述像素点的距离掩码值;

根据各像素点的距离掩码值生成待处理图像的距离掩码图像。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据所述待处理图像中任一像素点到高光像素点的距离确定所述像素点的距离掩码值,包括:

根据所述待处理图像中任一像素点到第一高光像素点的距离确定所述像素点的距离掩码值,所述第一高光像素点为距离所述像素点最近的高光像素点。

5.根据权利要求3或4所述的方法,其特征在于,所述确定所述待处理图像中的高光像素点,包括:

对所述待处理图像进行下采样,得到下采样图像;

确定所述下采样图像中的所述高光像素点;

所述根据各像素点的距离掩码值生成待处理图像的距离掩码图像,包括:

根据所述下采样图像中各像素点的距离掩码值生成下采样距离掩码图像;

对所述下采样距离掩码图像进行上采样,得到所述待处理图像的距离掩码图像。

6.根据权利要求5所述的方法,其特征在于,所述对所述下采样距离掩码图像进行上采样,得到所述待处理图像的距离掩码图像,包括:

根据所述下采样图像,得到对应的灰度图像;

通过所述灰度图像引导所述下采样距离掩码图像进行滤波,得到滤波后的下采样距离掩码图像;

对所述滤波后的下采样距离掩码图像进行上采样,得到所述待处理图像的距离掩码图像。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述根据待处理图像得到第一图像,包括:

对所述待处理图像进行光晕提取,得到第一图像;

所述根据所述掩码图像对所述待处理图像及所述第一图像进行融合,得到去光晕图像,包括:

针对待处理图像中的任一像素点,确定所述像素点在所述掩码图像中对应的第一掩码值;

根据所述像素点在待处理图像中的像素值、所述像素点在所述第一图像中对应的像素值及所述像素点对应的第一掩码值,得到所述去光晕图像。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,所述根据待处理图像得到第一图像,包括:

对所述待处理图像进行光晕提取,得到光晕图;

根据所述光晕图对所述待处理图像进行去光晕处理,得到所述第一图像。

9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,所述根据所述掩码图像对所述待处理图像及所述第一图像进行融合,得到去光晕图像,包括:

针对所述待处理图像中的任一像素点,确定所述像素点在所述掩码图像中对应的第一掩码值;

根据所述第一掩码值确定第二掩码值;

根据所述第一掩码值与所述像素点在所述第一图像中的像素值确定第一像素值,及根据所述第二掩码值与所述像素点在所述待处理图像中的像素值确定第二像素值;

根据所述第一像素值及所述第二像素值,得到所述去光晕图像。

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