[发明专利]一种取样结构和取样装置

权利要求书

1.一种取样结构，其特征在于，包括：

取样头，所述取样头的一侧表面为平面，所述取样头的一侧表面上形成有储样部，所述储样部的表面形成有亲水层；

杆体，所述取样头设在所述杆体的一端。

2.根据权利要求1所述的取样结构，其特征在于，所述储样部包括至少一个凹槽，所述凹槽的内侧壁和底壁上分别形成有亲水层，所述凹槽的底壁为与所述取样头的一侧表面平行的水平面。

3.根据权利要求2所述的取样结构，其特征在于，所述储样部包括多个所述凹槽，多个所述凹槽中至少两个所述凹槽的深度不同。

4.根据权利要求2所述的取样结构，其特征在于，至少一个所述凹槽的深度呈阶梯状变化或者线性渐变。

5.根据权利要求1所述的取样结构，其特征在于，所述取样头的一侧表面上除所述储样部之外的区域形成有憎水层。

6.根据权利要求1所述的取样结构，其特征在于，所述杆体上邻近所述取样头的位置设有沿所述杆体的周向延伸的槽口。

7.根据权利要求1所述的取样结构，其特征在于，所述储样部包括至少一个凹槽，所述取样头的一侧表面设有溶液槽，所述溶液槽与所述凹槽间隔开设置。

8.根据权利要求7所述的取样结构，其特征在于，所述溶液槽设在所述取样头上远离所述杆体的一端，和/或所述溶液槽设在所述取样头的一侧或两侧边沿位置，所述溶液槽的槽口所在平面的高度低于所述凹槽的槽口所在平面的高度。

9.根据权利要求7所述的取样结构，其特征在于，所述溶液槽的槽口位置设有盖体以开启或封闭所述溶液槽，所述盖体为透明状。

10.一种取样装置，其特征在于，包括：

如权利要求1-9中任一项所述的取样结构；

底座，所述底座上设有一侧开口的容纳槽，所述容纳槽的至少一端贯穿，所述容纳槽的贯穿的一端设有刮片，所述刮片的两端分别与所述容纳槽的相对两侧的边沿连接以限定出与所述容纳槽连通的插入口，所述取样结构的所述取样头能够穿过所述插入口置于所述容纳槽中。