[发明专利]靶材安装结构及离子源溅射系统

权利要求书

1.一种靶材安装结构，其特征在于，包括：主轴、靶材底座以及固定支撑轴，所述靶材底座上设有多个靶材安装座，各个所述靶材安装座连接螺杆；

所述主轴与所述靶材底座连接，带动所述靶材底座旋转；

所述固定支撑轴通过单向逆止结构分别与所述靶材底座和螺杆的一端连接，所述螺杆的另一端通过涡轮与所述靶材安装座连接；

所述主轴往正向旋转时，所述靶材底座跟随转动，所述单向逆止结构使得所述螺杆相对于靶材底座静止，螺杆相对于所述固定支撑轴位移，所述靶材安装座保持静止；

所述主轴往反向旋转时，所述靶材底座跟随转动，所述单向逆止结构使得所述螺杆相对于固定支撑轴位移，所述螺杆相对于靶材底座位移，所述螺杆通过涡轮转动靶材安装座。

2.根据权利要求1所述的靶材安装结构，其特征在于，所述单向逆止结构包括旋转方向相反的第一单向离合器逆轴承和第二单向离合器逆轴承；

所述螺杆套在第一单向离合器逆轴承的内环，所述靶材底座与第一单向离合器逆轴承的外环固定连接；

所述螺杆套在第二单向离合器逆轴承的内环，所述固定支撑轴与第二单向离合器逆轴承的外环固定连接。

3.根据权利要求2所述的靶材安装结构，其特征在于，所述固定支撑轴为中空设计，顶部设有螺杆安装支座，所述螺杆安装支座用于安装螺杆；

所述第一单向离合器逆轴承嵌套在靶材底座上，所述第二单向离合器逆轴承嵌套在固定支撑轴内部。

4.根据权利要求1所述的靶材安装结构，其特征在于，各个所述靶材安装座通过旋转轴连接涡轮上，所述涡轮分别与所述螺杆咬合。

5.根据权利要求4所述的靶材安装结构，其特征在于，所述靶材安装座数量为三个，分别均匀分布在所述靶材底座上。

6.根据权利要求1至5任一项所述的靶材安装结构，其特征在于，所述靶材安装座通过旋转轴与所述涡轮连接，所述旋转轴内设有冷却水路。

7.根据权利要求6所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴上设有环形的进水槽和出水槽，所述进水槽和出水槽通过水路连通，所述水路设于旋转轴内部；

所述筒体在进水槽位置上开设进水口，所述筒体在出水槽位置上开设出水口；

其中，所述水路从进水槽底部通过进水路引至靶材安装端部，并由所述靶材安装端部通过出水路引至出水槽底部。

8.根据权利要求6所述的靶材安装结构，其特征在于，所述旋转轴与筒体的两端通过轴承固定连接，且筒体之间为密封设计；

所述旋转轴上设有密封槽，所述密封槽用于安装密封圈，与所述筒体之间形成真空密封；

其中，所述旋转轴的进水槽与出水槽之间设有至少一个密封圈，所述旋转轴的进水槽与一侧轴承之间设有至少两个密封圈，所述出水槽与另一侧轴承之间设有至少两个密封圈。

9.根据权利要求6所述的靶材安装结构，其特征在于，各个所述靶材安装座的旋转轴上的进水口和出水口通过管道串联，形成一条冷却水路。

10.一种离子源溅射系统，其特征在于，包括：权利要求1至9任一项所述的靶材安装结构。