[发明专利]一种高遮盖面漆UV涂料及其制备方法在审
申请号: | 201911418037.5 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN111073478A | 公开(公告)日: | 2020-04-28 |
发明(设计)人: | 谢贵华;阙璨璨;周治明 | 申请(专利权)人: | 海聚高分子材料科技(广州)有限公司;广东海聚环保科技有限公司 |
主分类号: | C09D167/06 | 分类号: | C09D167/06;C09D175/14;C09D5/16;C09D7/61;C09D7/65 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 陈嘉毅 |
地址: | 510535 广东省广州市黄埔区广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 遮盖 uv 涂料 及其 制备 方法 | ||
本发明提供了一种高遮盖面漆UV涂料及其制备方法,所述高遮盖面漆UV涂料包括以下按质量百分数计算的组分:聚酯改性丙烯酸脂20%~32%;脂肪族聚氨酯丙烯酸脂10%~20%;光引发剂:2‑羟基‑2‑甲基‑苯基丙酮0.1%~1.8%、混合引发剂2%~5%;钛白粉20%~40%;分散剂:改性聚氨酯高聚物0.1%~5%;流平剂:聚硅氧烷聚醚共聚物0.1%~2.0%;活性稀释剂:二缩三丙二醇二丙烯酸酯1%~5%、二丙二醇二丙烯酸脂7.5%~25%、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯1%~5%;硅氟共聚物0.1%~1.8%;二氧化硅3%~18%;所述混合引发剂为三甲基苯基酰基二苯基氧化膦与二酰基氧化膦;所述三甲基苯基酰基二苯基氧化膦与二酰基氧化膦的质量之比为3:1。所述高遮盖面漆UV涂料具有较高的遮盖率,且附着力和流平性好。
技术领域
本发明涉及光固化涂料的技术领域,更具体地,涉及一种高遮盖面漆UV涂料及其制备方法。
背景技术
UV涂料是目前常用的涂料,通过利用紫外光引发具有化学活性的液态材料聚合交联,固化为固体材料,仅需要用于光引发剂的辐射能,避免了热固化或挥发性涂料那样还要加热蒸发除去稀释用的溶剂,特别对一些热敏感材质尤其适用,能够作为多种基材表面的面漆。但是现有的面漆UV涂料仍存在某些需要解决的问题,无法满足某些用途需求,例如对于高遮盖的用途需求方面,现有技术(中国专利CN103031034 B)公开了一种白色面漆光固化UV涂料,该白色面漆光固化UV涂料虽然具有良好的附着力和流平性,但由于二氧化钛的含量不高(一般为8~12wt%),造成遮盖率较低,无法作为高遮盖面漆使用。现有普通面漆涂料要实现高遮盖率,仅通过一道面漆是达不到,要达到高遮盖率要求,则至少要两道以上,这样导致工序增加,且重涂面漆的性能不如一道的面漆。要实现高遮盖率,往往需要提高UV涂料中二氧化钛的含量(至少提高至20wt%),这样可以提高UV涂料使用时面漆的厚度(10~40μm),但由于厚度变厚,这样在UV固化时使得面漆表面和里面的涂料的固化进程不一,影响了附着力和流平性。
发明内容
本发明的目的在于提供一种高遮盖面漆UV涂料,所述高遮盖面漆UV涂料具有较高的遮盖率,且附着力和流平性好。
本发明的另一个目的在于提供一种上述高遮盖面漆UV涂料的制备方法。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案是:
一种高遮盖面漆UV涂料,包括以下按质量百分数计算的组分:
聚酯改性丙烯酸脂20%~32%;脂肪族聚氨酯丙烯酸脂10%~20%;光引发剂:2-羟基-2-甲基-苯基丙酮0.1%~1.8%、混合引发剂2%~5%;钛白粉20%~40%;分散剂:改性聚氨酯高聚物0.1%~5%;流平剂:聚硅氧烷聚醚共聚物0.1%~2.0%;活性稀释剂:二缩三丙二醇二丙烯酸酯1%~5%、二丙二醇二丙烯酸脂7.5%~25%、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯1%~5%;硅氟共聚物0.1%~1.8%;二氧化硅3%~18%;
所述混合引发剂为三甲基苯基酰基二苯基氧化膦与二酰基氧化膦;所述三甲基苯基酰基二苯基氧化膦与二酰基氧化膦的质量之比为3:1。
优选地,所述高遮盖面漆UV涂料包括以下按质量百分数计算的组分:聚酯改性丙烯酸脂22%~28%;脂肪族聚氨酯丙烯酸脂12%~15%;光引发剂:2-羟基-2-甲基-苯基丙酮1%~1.8%、混合引发剂2%~3.5%;钛白粉22%~35%;分散剂:改性聚氨酯高聚物0.2%~1.5%;流平剂:聚硅氧烷聚醚共聚物0.1%~1.2%;活性稀释剂:二缩三丙二醇二丙烯酸酯2%~4%、二丙二醇二丙烯酸脂7.7%~15%、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯2%~4%;硅氟共聚物0.1%~1.8%;二氧化硅3%~18%。
本发明所述聚酯改性丙烯酸脂的官能度为2、分子量为2万~4万、在25℃下的黏度为3000~5000mPa·s。
本发明所述脂肪族聚氨酯丙烯酸脂的官能度为6、分子量为1万~2万、在25℃下的黏度为8000±100mPa·s。
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