[发明专利]光学成像系统在审

专利信息
申请号: 201911419010.8 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN110966960A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 刘充;吕键;李四维;陈光磊;黄伯源;席文帅;李明明 申请(专利权)人: 广东省航空航天装备技术研究所
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24;G06T17/00;G06T7/50
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 黄丽
地址: 519090 广东省珠海市金*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,包括:

出光模块,包括耦合器,所述耦合器用于发出多束相干光并将所述多束相干光投射至待测物体;

采集模块,用于采集待测物体被所述多束相干光照射后的干涉图像;及

重构模块,与所述采集模块电连接,用于根据所述干涉图像重构所述待测物体的三维轮廓。

2.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述重构模块包括:

第一获取单元,用于获取所述干涉图像的每个待测点的深度;

第二获取单元,用于获取所述干涉图像的每个待测点在所述干涉图像上的二维坐标;及

重构单元,用于对所述干涉图像的每个待测点的深度及所述干涉图像的每个待测点在所述干涉图像上的二维坐标进行计算,以重构所述待测物体的三维轮廓。

3.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一获取单元包括:

选取单元,用于选取所述干涉图像上的任意一待测点作为参考点;

第一计算单元,用于计算最靠近所述参考点的两个光斑点之间的距离;

第二计算单元,用于计算所述干涉图像上最靠近每个待测点的两个光斑点之间的距离;

第三计算单元,用于根据所述最靠近所述参考点的两个光斑点之间的距离及所述干涉图像上最靠近每个待测点的两个光斑点之间的距离计算得到该点的深度。

4.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述出光模块还包括光源,所述光源用于发出相干光;所述耦合器一端与所述光源连接,另一端作为所述多束相干光的输出端面。

5.根据权利要求4所述的光学成像系统,其特征在于,所述光源包括半导体激光器。

6.根据权利要求4所述的光学成像系统,其特征在于,所述耦合器远离所述光源的一端包括多根光纤。

7.根据权利要求6所述的光学成像系统,其特征在于,所述耦合器远离所述光源一端的多根光纤的尺寸相同。

8.根据权利要求4所述的光学成像系统,其特征在于,所述采集模块设置于所述耦合器远离所述光源的一端。

9.根据权利要求8所述的光学成像系统,其特征在于,所述采集模块包括摄像头。

10.根据权利要求9所述的光学成像系统,其特征在于,所述摄像头上设置有光学滤波片。

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