[发明专利]一种抛光设备在审

专利信息
申请号: 201911422743.7 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN110962023A 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 杨兆明;颜凯;中原司 申请(专利权)人: 浙江芯晖装备技术有限公司
主分类号: B24B27/00 分类号: B24B27/00;B24B29/02;B24B53/007;B24B41/00;B24B57/02;B08B3/04
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 314400 浙江省嘉兴市海宁市海*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 抛光 设备
【权利要求书】:

1.一种抛光设备,其特征在于,包括:

工作台(1),其上设置有一个上下料工位(11)和多个相分隔的抛光工位(12);

抛光盘(2),每个所述抛光工位(12)均设置有一个所述抛光盘(2);

抛光盘清洗器(3),每个所述抛光工位(12)均设置有一个所述抛光盘清洗器(3),且所述抛光盘清洗器(3)可转动地设置在所述抛光盘(2)的一侧;

转盘(4),可转动地设置在所述工作台(1)的上方;

抛光头组件(5),沿竖直方向可升降地设置在所述转盘(4)上,多组所述抛光头组件(5)沿所述转盘(4)的周向均匀分布;

所述转盘(4)能够带动多组所述抛光头组件(5)转动,以使其中一组所述抛光头组件(5)与所述上下料工位(11)相对并吸附位于所述上下料工位(11)的待抛光的晶圆(100),同时使其余组所述抛光头组件(5)与所述抛光盘(2)一一相对,所述抛光头组件(5)能够与所述抛光盘(2)相配合对所述晶圆(100)进行抛光。

2.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,还包括传送机构(6),所述传送机构(6)沿水平方向可移动地设置在所述工作台(1)上,以将放置在其上的待抛光的所述晶圆(100)移动至所述上下料工位(11)。

3.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,还包括抛光头清洗器(7),所述抛光头清洗器(7)可升降地设置在所述上下料工位(11)上,所述转盘(4)能够带动所述抛光头组件(5)转动至所述抛光头清洗器(7)的上方,以使所述抛光头清洗器(7)能够清洗所述抛光头组件(5)。

4.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,多个所述抛光工位(12)的抛光精度依次增高。

5.根据权利要求2所述的抛光设备,其特征在于,还包括装载机械手(8),所述工作台(1)上还设置有装载区(13),盛装有待抛光的所述晶圆(100)的装载晶圆盒(200)能够放置在所述装载区(13),所述装载机械手(8)能够将所述晶圆(100)由所述装载晶圆盒(200)中取出并放置在所述传送机构(6)上。

6.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,还包括卸载传送机构(9),所述卸载传送机构(9)可转动地设置在所述工作台(1)上且能够转动至所述上下料工位(11),以使所述抛光头组件(5)能够将抛光后的所述晶圆(100)放置在所述卸载传送机构(9)上。

7.根据权利要求6所述的抛光设备,其特征在于,还包括卸载机械手(10),所述工作台(1)上还设置有卸载区(14),卸载晶圆盒(300)能够放置在所述卸载区(14),所述卸载机械手(10)能够将所述卸载传送机构(9)上的所述晶圆(100)放入至所述卸载晶圆盒(300)中。

8.根据权利要求7所述的抛光设备,其特征在于,所述卸载区(14)设置有水槽(15),盛装有所述晶圆(100)的所述卸载晶圆盒(300)能够浸没在所述水槽(15)中。

9.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,所述工作台(1)上还设置有隔板(16),所述隔板(16)将所述工作台(1)分隔出所述上下料工位(11)和多个所述抛光工位(12)。

10.根据权利要求1所述的抛光设备,其特征在于,每组所述抛光头组件(5)包括至少两个抛光头(51),以使至少两片所述晶圆(100)能够在同一个所述抛光盘(2)上抛光。

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