[发明专利]粗糙化的基板支撑件

权利要求书

1.一种基板支撑件，包括：

基板支撑件主体，具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间；以及

阳极处理涂布层，位于所述基板支撑件上，其中所述基板支撑件主体的所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。

2.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件主体包括铝。

3.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述阳极处理涂布层的厚度介于约23μm至约27μm之间。

4.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件主体具有内表面，其中所述内表面具有表面粗糙度，其中所述表面粗糙度转变成所述阳极处理涂布层。

5.如权利要求1所述的基板支撑件，进一步包括一基板，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于基板上的膜厚的均匀度的表面抛光。

6.如权利要求5所述的基板支撑件，其中所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。

7.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所述基板支撑件主体包括粗糙化高原部和粗糙化凹部。

8.如权利要求1所述的基板支撑件，其中所属基板支撑件主体包括用于接触基板的尖端和边缘。

9.一种基板支撑件，包括粗糙化基板支撑件主体，所述粗糙化基板支撑件主体由喷珠工艺形成，所述喷珠工艺包括：

于第一工艺中对所述基板支撑件主体的表面进行喷珠，其中所述珠体具有第一磨粒尺寸；以及

于第二工艺中对所述基板支撑件主体的所述表面进行喷珠，其中所述珠体具有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工艺进一步包括：

使所述喷嘴于第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于第二方向中；

使所述喷嘴于第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

转动所述基板支撑件约90度；

使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及

使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；以及

对所述基板支撑件主体进行阳极处理以形成阳极处理涂布层，其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层，并且其中所述粗糙化基板支撑件主体具有表面粗糙度，所述表面粗糙度介于约707微英寸及约834微英寸之间。

10.一种基板支撑件，包括粗糙化基板支撑件主体和基板，所述粗糙化基板支撑件主体由喷珠工艺形成，所述喷珠工艺包括：

于第一工艺中对所述基板支撑件主体的表面进行喷珠，其中所述珠体具有第一磨粒尺寸；以及

于第二工艺中对所述基板支撑件主体的所述表面进行喷珠，其中所述珠体具有第二磨粒尺寸，所述第二磨粒尺寸小于所述第一磨粒尺寸，其中所述第二工艺进一步包括：

使所述喷嘴于第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于第二方向中；

使所述喷嘴于第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

转动所述基板支撑件约90度；

使所述喷嘴于所述第一方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；

沿着所述基板支撑件的所述表面转换所述喷嘴于所述第二方向中；以及

使所述喷嘴于所述第三方向中扫描过所述基板支撑件的所述表面；以及

对所述基板支撑件主体进行阳极处理以形成阳极处理涂布层，其中所述粗糙化基板支撑件主体的所述经喷珠处理的表面转变成所述阳极处理涂布层，其中所述阳极处理涂布层具有外表面，所述外表面具有被配置成促进沉积于所述基板上的膜厚的均匀度的表面抛光，并且

其中所述表面抛光具有约707微英寸至约847微英寸的粗糙度。