[发明专利]氧化锌基透明电极光电探测器及其制备方法在审
申请号: | 201911423521.7 | 申请日: | 2019-12-31 |
公开(公告)号: | CN111139449A | 公开(公告)日: | 2020-05-12 |
发明(设计)人: | 裴艳丽;王新中 | 申请(专利权)人: | 深圳信息职业技术学院 |
主分类号: | C23C16/02 | 分类号: | C23C16/02;C23C16/40;C23C16/455;C23C16/52;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 深圳中一联合知识产权代理有限公司 44414 | 代理人: | 曹柳 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化锌 透明 电极 光电 探测器 及其 制备 方法 | ||
1.一种氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
获取形成有光电探测器的基板;
提供锌源、掺杂金属源和水,在温度为300~450℃条件下,在所述光电探测器远离所述基板的一侧表面沉积形成氧化锌基透明电极层,得到氧化锌基透明电极光电探测器。
2.如权利要求1所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,提供锌源、掺杂金属源和水的步骤包括:以8×10-5~4×10-4摩尔/分钟的流量提供锌源,以7×10-6~4×10-5摩尔/分钟的流量提供掺杂金属源,以7×10-4~4×10-3摩尔/分钟的流量提供水;和/或,
沉积形成氧化锌基透明电极层的压力为6~12Torr;和/或,
所述光电探测器包括光敏半导体层和阻挡半导体层。
3.如权利要求2所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,在所述光电探测器远离所述基板的一侧表面沉积形成氧化锌基透明电极层的步骤包括:
以8×10-5~4×10-4摩尔/分钟的流量提供锌源,以7×10-6~4×10-5摩尔/分钟的流量提供掺杂金属源,以1×10-3~4×10-3摩尔/分钟的流量提供水,在温度为300~400℃,压力为6~12Torr的条件下,在所述光电探测器远离所述基板的一侧表面沉积形成第一氧化锌基透明电极层;
以8×10-5~4×10-4摩尔/分钟的流量提供锌源,以7×10-6~4×10-5摩尔/分钟的流量提供掺杂金属源,以7×10-4~1×10-3摩尔/分钟的流量提供水,在温度为400~450℃,压力为6~12Torr的条件下,在所述第一氧化锌基透明电极层表面沉积形成第二氧化锌基透明电极层。
4.如权利要求3所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,所述阻挡半导体层包括:TiO2、掺杂TiO2、NiO、CuO、SnSe中的至少一种;和/或,
所述光敏半导体层包括:CdS、ZnO、掺杂ZnO中的至少一种;和/或,
所述阻挡半导体层的厚度为50~500nm;和/或,
所述光敏半导体层的厚度为20~500nm。
5.如权利要求4所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,所述锌源选自:二乙基锌、三甲基锌中的至少一种;和/或,
所述掺杂金属源选自:铝源、铟源、镓源中的至少一种。
6.如权利要求5所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,所述铝源选自三甲基铝;和/或,
所述铟源选自三甲基铟;和/或,
所述镓源选自三乙基镓。
7.如权利要求3~6任一所述的氧化锌基透明电极光电探测器的制备方法,其特征在于,所述氧化锌基透明电极层中,掺杂的金属元素与锌元素的质量比为1%~10%;和/或,
所述第一氧化锌基透明电极层的厚度为10~50nm;和/或,
所述第二氧化锌基透明电极层的厚度为90~450nm;和/或,
所述氧化锌基透明电极层的厚度为100~500nm。
8.一种氧化锌基透明电极光电探测器,其特征在于,包括光电探测器和氧化锌基透明电极层,所述光电探测器与所述氧化锌基透明电极层之间形成有富氢层,所述氧化锌基透明电极层中包含有金属掺杂元素。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳信息职业技术学院,未经深圳信息职业技术学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201911423521.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的