[实用新型]光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置

说明书

本实用新型涉及一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置，包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽，外框槽的底板上固定连接有多个一层隔离板，各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔，底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔；设有一托板，托板上固定连接有多个二层隔离板，各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔，托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔；设有一压板，压板位于二层隔离板上方，压板上开设有多个通孔。该装置能实现光刻胶玻璃瓶的快速批量清洗，大大提高了清洗效率，保证了清洗效果。

技术领域

本实用新型涉及一种玻璃容器清洗装置，具体涉及一种用于对储存光刻胶的高洁净玻璃容器进行清洗的装置。

背景技术

在半导体工业中，光刻胶是芯片及器件制造工艺中使用的关键材料。通常，光刻胶产品都要求颗粒度、水分和金属杂质等指标在较低的范围，从而保证在制造过程中芯片不会被光刻胶沾污，影响电路性能。随着集成电路尺寸不断减小，人们对集成电路制造过程中的金属杂质含量和颗粒度要求也随之不断提高。最高端的半导体芯片要求光刻胶等原材料的单个金属杂质含量控制在1ppb以内，颗粒度在0.15微米以上控制在10个/mL以内。光刻胶的包装容器也必须以最高的标准进行控制，否则容器内的颗粒物和金属杂质，会随着光刻工序附着在晶圆上，使微电路被颗粒物断路或短路，造成缺陷；进而影响整批半导体产品的良率。

当前，我国正在大力发展半导体产业，其中对光刻胶的研发是重点之一。在光刻胶的研发过程中，需要多次进行光刻性能评估。在光刻胶配方研发过程中，配方数量巨大，但每个配方只会制备少量样品进行评估。因此，光刻胶专用的小型洁净玻璃容器需求量巨大，出于成本考虑，相关的玻璃容器的清洗工作也变得愈发重要。

现有技术中，清洗时，需要将小瓶子一个个地放置在清洗槽内；然后每个瓶子内灌入清洗液，灌满后再分别进行清洗；清洗结束后还需再一个个倒空清洗液取出烘干。使用现有的清洗方式，主要的时间耗费在清洗液灌入和倒出每个瓶子的过程中。同时，大批量清洗小型玻璃容器，存在清洗液残留的情况，会造成清洗效果变差，颗粒度和金属杂质的指标过高。为确保容器的洁净度，只能采用少量多次的方式进行清洗，耗费大量的人力，不能满足配方开发时候的容器需求。

因此，开发简易的、大批量清洗光刻胶容器的清洗装置势在必行。

发明内容

本实用新型的发明目的是提供一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置，以实现对小型光刻胶容器的批量清洗，提高清洗效率和清洗质量。

为达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是：一种光刻胶用小型玻璃容器的清洗装置，包括具有4个侧板和1个底板的长方体形状的外框槽，所述外框槽的底板上固定连接有多个竖向布置的一层隔离板，各相邻一层隔离板之间以及最外侧的一层隔离板和侧板之间构成一层小型玻璃容器容纳腔，所述底板上对应每个一层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔；设有一可平放在所述外框槽内的托板，所述托板放置在所述一层隔离板上方，所述托板上固定连接有多个竖向布置的二层隔离板，各相邻二层隔离板之间以及最外侧的二层隔离板和侧板之间构成二层小型玻璃容器容纳腔，所述托板上对应每个二层小型玻璃容器容纳腔分别设有至少1个通孔；设有一压板，所述压板位于所述二层隔离板上方，压板上开设有多个通孔。