[实用新型]一种晶圆背面边缘区清洗设备有效

专利信息
申请号: 201920034201.1 申请日: 2019-01-09
公开(公告)号: CN209249434U 公开(公告)日: 2019-08-13
发明(设计)人: 黄玉辉 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/02
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 230601 安徽省合肥市合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 背面边缘 晶圆 清洗设备 种晶 本实用新型 晶圆背面 清洗 产品良率 固定支撑 晶圆边缘 晶圆中心 清洗过程 喷嘴 边缘区 承载台 可旋转 清洗液 制程 喷射 损伤
【权利要求书】:

1.一种晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于,包括:

可旋转承载台,位于晶圆中心下方,用于固定支撑及旋转所述晶圆;

喷嘴,设置于晶圆边缘区下方或所述晶圆外侧下方,用于向所述晶圆的背面边缘区喷射清洗液,以清洗所述晶圆的背面边缘区。

2.根据权利要求1所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:所述晶圆背面边缘区清洗设备包括多个所述喷嘴,且各所述喷嘴与水平面之间具有相同的夹角,各所述喷嘴与所述晶圆下表面之间具有相同的距离。

3.根据权利要求2所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:所述喷嘴数量介于3~5个之间,所述喷嘴沿所述晶圆半径方向排成一列。

4.根据权利要求3所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:所述喷嘴朝所述晶圆的内侧倾斜,所述喷嘴与水平面之间的夹角介于45度~60度之间。

5.根据权利要求3所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:位于最外侧的所述喷嘴在所述晶圆的投影范围之外,且与所述晶圆侧边的水平距离介于80mm~120mm之间。

6.根据权利要求5所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:位于最外侧的所述喷嘴与水平面之间的夹角C、位于最外侧的所述喷嘴与所述晶圆的侧边的水平距离B、位于最外侧的所述喷嘴与所述晶圆下表面之间的距离A之间的关系满足:tanC=A/B。

7.根据权利要求1所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:所述清洗液的种类包括去离子水,所述清洗液的压强介于6MPa~10MPa之间,所述可旋转承载台的转速介于40rpm/sec~50rpm/sec之间。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的晶圆背面边缘区清洗设备,其特征在于:所述晶圆背面边缘区清洗设备还包括阀门和增压装置;其中,所述阀门连接所述喷嘴,以控制所述喷嘴的开关;所述增压装置连接清洗液源,并与所述阀门相连接,所述增压装置用于对所述清洗液进行增压处理。

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