[实用新型]一种双抛光平台的化学抛光设备

权利要求书

1.一种双抛光平台的化学抛光设备，包括抛光桌（1）、连接臂（6）、抛光平台（11）、抛光垫（12）和支撑架（17），其特征在于：所述抛光桌（1）上方设置有桌槽（2），且抛光桌（1）与固定板（3）相互连接，所述固定板（3）正面设置有滑槽（4），且滑槽（4）的一头安装有滑槽侧盖（5），所述连接臂（6）通过滑槽（4）与固定板（3）相互连接，且连接臂（6）与伸缩杆（7）相互连接，所述伸缩杆（7）通过锁紧旋钮（8）与伸缩套筒（9）相互连接，且伸缩套筒（9）下方连接有抛光棒（10），所述抛光平台（11）通过第一转轴（13）与电机（16）相互连接，且抛光平台（11）位于桌槽（2）内，所述抛光垫（12）位于抛光平台（11）上方，所述第一转轴（13）通过传动带（14）与第二转轴（19）相互连接，且传动带（14）位于皮带箱（15）内，所述皮带箱（15）位于抛光桌（1）的下方，所述支撑架（17）位于抛光桌（1）下方，且支撑架（17）上设置有连接杆（18）。

2.根据权利要求1所述的一种双抛光平台的化学抛光设备，其特征在于：所述桌槽（2）、连接臂（6）、伸缩杆（7）、锁紧旋钮（8）、伸缩套筒（9）、抛光棒（10）和抛光平台（11）均设置有两个，且桌槽（2）和抛光平台（11）均关于抛光桌（1）中轴线相互对称。

3.根据权利要求1所述的一种双抛光平台的化学抛光设备，其特征在于：所述滑槽（4）与连接臂（6）卡合连接。

4.根据权利要求1所述的一种双抛光平台的化学抛光设备，其特征在于：所述抛光棒（10）的长度等于抛光平台（11）的半径。

5.根据权利要求1所述的一种双抛光平台的化学抛光设备，其特征在于：所述抛光垫（12）的直径等于抛光平台（11）的直径。

6.根据权利要求1所述的一种双抛光平台的化学抛光设备，其特征在于：所述支撑架（17）设置有四根，且相互之间均连接有连接杆（18）。