[实用新型]一种镀膜机展平辊布局结构及使用该结构的镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种镀膜机展平辊布局结构，包括真空室及设置于真空室的镀膜部件，所述镀膜部件包括传递组件及蒸发源，所述传递组件包括两个绕卷轮、两个主辊及两个蒸发源；在本设备工作时，两个绕卷轮中，其中一个作为收卷轮，另一个作为放卷轮；在带材传递路径上，两个主辊位于两个绕卷轮之间，且两个主辊中，其中一个主辊与带材的其中一侧作用，另一个主辊与带材的另一侧作用；两个蒸发源均用于汽化待镀材料，且一个蒸发源与一个主辊组成一个镀膜工位；在任意镀膜工位上，通过蒸发源加热所得的气相作用于与主辊贴合的带材段上。本设备可实现材料双面镀膜，同时便于获得更厚的镀膜厚度。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，特别涉及一种镀膜机展平辊布局结构。

背景技术

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件(金属、半导体或绝缘体)表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铜等。

真空镀膜技术一般分为两大类，即物理气相沉积(PVD)技术和化学气相沉积(CVD)技术。

物理气相沉积技术是指在真空条件下，利用各种物理方法，将镀料气化成原子、分子或使其离化为离子，直接沉积到基体表面上的方法。制备硬质反应膜大多以物理气相沉积方法制得，它利用某种物理过程，如物质的热蒸发，或受到离子轰击时物质表面原子的溅射等现象，实现物质原子从源物质到薄膜的可控转移过程。物理气相沉积技术具有膜/基结合力好、薄膜均匀致密、薄膜厚度可控性好、应用的靶材广泛、溅射范围宽、可沉积厚膜、可制取成分稳定的合金膜和重复性好等优点。同时，物理气相沉积技术由于其工艺处理温度可控制在500℃以下，因此可作为最终的处理工艺用于高速钢和硬质合金类的薄膜刀具上。由于采用物理气相沉积工艺可大幅度提高刀具的切削性能，人们在竞相开发高性能、高可靠性设备的同时，也对其应用领域的扩展，尤其是在高速钢、硬质合金和陶瓷类刀具中的应用进行了更加深入的研究。

化学气相沉积技术是把含有构成薄膜元素的单质气体或化合物供给基体，借助气相作用或基体表面上的化学反应，在基体上制出金属或化合物薄膜的方法，主要包括常压化学气相沉积、低压化学气相沉积和兼有CVD和PVD两者特点的等离子化学气相沉积等。

现有的镀膜设备由于只包括一组镀膜工位，在镀膜时只能一次镀一面的膜，而在一次性双面往返蒸镀真空卷绕镀膜设备卷绕系统中，由于需要往返镀膜，而镀膜过程中必须在主辊位置完成，而两个方向展平辊的角度是不一样的，当一个方向调整得没有折皱完成镀膜工艺后，带材反方向运行时调节展平辊的方向就比较困难。

实用新型内容

本实用新型的目的在于：提供了一种镀膜机展平辊布局结构，解决了由于需要往返镀膜，而镀膜过程中必须在主辊位置完成，而两个方向展平辊的角度是不一样的，当一个方向调整得没有折皱完成镀膜工艺后，带材反方向运行时调节展平辊的方向就比较困难的问题。

本实用新型采用的技术方案如下：

一种镀膜机展平辊布局结构，包括一个主辊；还包括至少2个展平辊，所述展平辊分别位于主辊的输入面和输出面两侧；所述位于主辊两侧的展平辊与主辊与带材的作用面不同。采用本方案能更好的保证带材往复时展平的效果，提高一次性双面往返镀膜的质量，保证了两个方向带材进出主辊的状态基本一致，确保往返镀膜时卷绕系统易于调节，保证往返镀膜的效果较佳。

所述位于主辊两侧的展平辊关于主辊的一条直径所在的直线轴对称。将两个方向的展平辊相对于主辊对称布局，保证了两个方向带材进出主辊的状态基本一致，确保往返镀膜时卷绕系统易于调节，保证往返镀膜的效果更好。

所述位于主辊两侧的展平辊的轴线位于同一水平面上。将两个方向的展平辊不知足同一水平高度上，保证了两个方向带材进出主辊的状态基本一致，确保往返镀膜时卷绕系统易于调节，保证往返镀膜的效果最好。

所述位于主辊两侧的展平辊之间的带材覆盖的主辊圆周部分对应的圆心角不小于 180°。