[实用新型]一种炉壁清理装置有效

专利信息
申请号: 201920053120.6 申请日: 2019-01-12
公开(公告)号: CN209524770U 公开(公告)日: 2019-10-22
发明(设计)人: 易本友 申请(专利权)人: 抚州市天和硅业有限责任公司
主分类号: F27D25/00 分类号: F27D25/00
代理公司: 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 代理人: 胡群
地址: 344000 江*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 还原炉炉 清理装置 筒体 高压水枪 炉壁 本实用新型 操作装置 脱盐水 上端 循环水出水口 循环水进水口 工人控制 均匀排列 清理系统 自动完成 传统的 还原炉 排污口 轻便 沉积 硅粉 碱液 原炉 灵活
【说明书】:

实用新型公开了一种炉壁清理装置,包括筒体和还原炉炉壁,其特征在于:所述还原炉炉壁放置于筒体的内部,所述筒体左上端设有循环水进水口,所述筒体右上端设有循环水出水口,所述筒体底部设有排污口,所述筒体底部位于还原炉炉壁内还设有若干个碱液用高压水枪和脱盐水高压水枪,所述液用高压水枪和脱盐水高压水枪沿圆周均匀排列。本实用新型具有通过将操作装置与清理装置相连,利用操作装置控制清理装置将沉积在还原炉炉壁上的硅粉从还原炉上清除,该还原炉炉壁清理系统结构简单、轻便灵活,由工人控制、确定好清理装置在原炉炉壁上的位置之后,清理装置即可自动完成还原炉炉壁的清理,比传统的还原炉炉壁清理方式节省人力和时间等优点。

技术领域

本实用新型涉及多晶硅生产设备技术领域,特别涉及一种炉壁清理装置。

背景技术

多晶硅材料是以工业硅为原料经一系列的物理化学反应提纯后达到一定纯度的电子材料,因其具有高纯度的特点,在整个生产过程中,对产品质量的控制要求很高。目前,生产多晶硅主要采用改良西门子法,在还原炉内进行化学气相沉积。因此,对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键,任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内,都会对产品质量造成影响。化学气相沉积主体设备还原炉由基盘和钟罩两部分组成,其中基盘主要用于安装电极及硅芯,钟罩用于反应空间密闭,两者用螺栓进行密封连接还原炉钟罩污染物易造成内表面热量反射减少,使生产能耗增加。因此,有必要提供一种能够选择方便、快捷、处理效果好的炉壁清理装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种炉壁清理装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种炉壁清理装置,包括筒体和还原炉炉壁,其特征在于:所述还原炉炉壁放置于筒体的内部,所述筒体左上端设有循环水进水口,所述筒体右上端设有循环水出水口,所述筒体底部设有排污口,所述筒体底部位于还原炉炉壁内还设有若干个碱液用高压水枪和脱盐水高压水枪,所述液用高压水枪和脱盐水高压水枪沿圆周均匀排列。

优选的,所述筒体为不锈钢材料制成的。

优选的,所述筒体为圆柱形。

优选的,所述碱液用高压水枪的个数为4。

优选的,所述脱盐水高压水枪的个数为4。

本实用新型的有益效果:

通过将操作装置与清理装置相连,利用操作装置控制清理装置将沉积在还原炉炉壁上的硅粉从还原炉上清除,该还原炉炉壁清理系统结构简单、轻便灵活,由工人控制、确定好清理装置在原炉炉壁上的位置之后,清理装置即可自动完成还原炉炉壁的清理,比传统的还原炉炉壁清理方式节省人力和时间。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种炉壁清理装置的结构示意图;

图2为本实用新型所述的高压水枪分布示意图。

图中:1、筒体;2、排污口;3、循环水进水口;4、循环水出水口;5、还原炉炉壁;6、碱液用高压水枪;7、脱盐水高压水枪。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1、2,一种炉壁清理装置,包括筒体1和还原炉炉壁5,所述还原炉炉壁5放置于筒体1的内部,所述筒体1左上端设有循环水进水口3,所述筒体1右上端设有循环水出水口4,所述筒体1底部设有排污口2,所述筒体1底部位于还原炉炉壁5内还设有若干个碱液用高压水枪6和脱盐水高压水枪7,所述液用高压水枪6和脱盐水高压水枪7沿圆周均匀排列。

在本实用新型中,所述筒体1为不锈钢材料制成的。

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