[实用新型]反应溅射系统腔体进气装置有效

专利信息
申请号: 201920055990.7 申请日: 2019-01-14
公开(公告)号: CN209368349U 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 王世宽 申请(专利权)人: 王世宽
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34
代理公司: 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 代理人: 董梅
地址: 200131 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 反应溅射系统 本实用新型 进气装置 腔体 镀膜均匀性 底座安装 进气方式 气体分布 通气圆环 真空腔体 不均匀 进气管 有效地 气嘴 底座 改装 制造
【权利要求书】:

1.一种反应溅射系统腔体进气装置,包括底座和进气管,底座安装在反应溅射系统的真空腔体上方,其特征在于:还包括通气圆环和八个气嘴,所述的底座左、右两侧中间对称设置有左、右底座进气口,底座中间内圈处设有环形凹槽,环形凹槽左、右两侧对称设置有左、右底座出气口,左、右底座进气口分别和左、右底座出气口两两对应连通,所述的进气管分为左、右进气支管,左、右进气支管分别和左、右底座进气口连通;

所述的通气圆环的外形与环形凹槽相契合,通气圆环左、右两侧对称设置有左、右圆环进气口,左、右圆环进气口分别和对称设置的左、右进气槽连通,左进气槽的两端分别和左上、左下出气槽连通,右进气槽的两端分别和右上、右下出气槽连通,每个出气槽的两端分别和两个圆环出气口连通,八个圆环出气口均布在通气圆环内侧,每个圆环出气口均安装有气嘴;

所述的通气圆环固定在底座上并嵌入环形凹槽内,左、右底座出气口与左、右圆环进气口相互重合,通气圆环与环形凹槽的接触面完全贴合形成密封,进气槽和出气槽形成密封的气体通路,气体从进气管注入,流经底座和通气圆环,分别自八个气嘴排出,所行经的八个气路的路径长度相同。

2.根据权利要求1所述的反应溅射系统腔体进气装置,其特征在于:所述的通气圆环通过螺丝可拆卸地固定在底座上并嵌入环形凹槽内。

3.根据权利要求1所述的反应溅射系统腔体进气装置,其特征在于:所述的气嘴可以微调出气流速。

4.根据权利要求3所述的反应溅射系统腔体进气装置,其特征在于:所述的气嘴通过螺纹连接安装在圆环出气口处。

5.根据权利要求4所述的反应溅射系统腔体进气装置,其特征在于:所述的气嘴与圆环出气口的连接处安装有密封环。

6.根据权利要求1所述的反应溅射系统腔体进气装置,其特征在于:所述的左、右进气支管与左、右底座进气口的连接处安装有密封环。

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