[实用新型]一种三氯化硼的高效纯化设备有效

专利信息
申请号: 201920063380.1 申请日: 2019-01-15
公开(公告)号: CN210084966U 公开(公告)日: 2020-02-18
发明(设计)人: 徐学强;周莹莹;张玲;刘春辉;陈亮勋 申请(专利权)人: 艾佩科(上海)气体有限公司
主分类号: C01B35/06 分类号: C01B35/06
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 201100 上海市闵行*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 氯化 高效 纯化 设备
【说明书】:

实用新型公开了一种三氯化硼的高效纯化设备,包括电炉、惰性气体进管、底板和第二冷凝罐,所述底板顶部的一端均匀通过第二支撑柱焊接有电炉,且电炉的顶部均匀通过第一支撑柱焊接有原料罐,所述底板顶部的另一端安装有水箱,且底板的顶部靠近电炉的内侧均匀通过第一支架焊接有第一冷凝罐,所述底板的顶部靠近水箱的内侧均匀通过第二支架焊接有第二冷凝罐。本实用新型通过底板的顶部靠近第一支架的内侧安装有回收箱和第一冷凝罐的底部安装有收料斗,且收料斗远离第一冷凝罐的一端安装有收集管,收集管远离收料斗的一端并与回收箱固定连接,便于对纯化的杂质进行收集后在进行处理,保证设备在使用时具有环保性和实用性。

技术领域

本实用新型涉及三氯化硼纯化设备技术领域,具体为一种三氯化硼的高效纯化设备。

背景技术

三氯化硼,危险化学品,无色发烟液体或气体,不可燃,有刺激性、酸性气味,主要用作半导体硅的掺杂源或有机合成催化剂,还用于高纯硼或有机硼的制取,三氯化硼反应能力较强,能形成多种配位化合物,具有较高的热力学稳定性,随着半导体器件及相关产业得到了迅猛发展,三氯化硼作为集成电路制造过程使用的原辅助料,由于集成电路精细度越来越高,因此,对其纯度要求特别高。

现有的,三氯化硼纯化设备在使用时,都是根据传统的工艺方法对其进行纯化,导致纯化程度低,同时不能保证纯化是一种高纯度的三氯化硼,从而不能满足当今半导体行业及相关产业的使用需求,其次,在纯化时需要用机械泵进行增压进行出料,导致机械泵容易引入杂质,从而降低了纯化时的精度,同时不能对纯化的杂质进行收集,导致不利于环保,还有,纯化后的三氯化硼不能进行快速有效的纯化冷却,从而不能满足工业化大批量的生产。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种三氯化硼的高效纯化设备,以解决上述背景技术中提出现有的,三氯化硼纯化设备在使用时,都是根据传统的工艺方法对其进行纯化,导致纯化程度低,同时不能保证纯化是一种高纯度的三氯化硼,从而不能满足当今半导体行业及相关产业的使用需求,其次,在纯化时需要用机械泵进行增压进行出料,导致机械泵容易引入杂质,从而降低了纯化时的精度,同时不能对纯化的杂质进行收集,导致不利于环保,还有,在纯化时,不能对生产三氯化硼时快速有效的纯化,从而延长了纯化时间和降低了纯化的效率,同时,不能对纯化后的三氯化硼进行快速有效的冷却,从而不能满足工业化大批量的生产的问题。

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