[实用新型]一种具有按摩功能的沐足盆

说明书

本实用新型属于沐足盆技术领域，尤其为一种具有按摩功能的沐足盆，包括沐足盆本体、第一按摩凸起、盖板、出水管和按摩轮，所述沐足盆本体的内侧壁靠近端口处焊接固定有所述盖板，所述沐足盆本体的一侧固定有所述出水管，所述沐足盆本体的内部上表面固定有所述第一按摩凸起，所述沐足盆本体的内部上表面中间位置处开设容腔，所述容腔的内侧壁固定有所述按摩轮，所述沐足盆本体的前表面固定有烘干组件；沐足盆本体两侧设有烘干组件，在沐足过后，可将脚伸入烘干组件，置于置脚板上，挡板能够将脚部部分热量进行存储，防止脚部完全暴露在空气中，通过外部电源带动电热丝进行发热，在电热框体和风扇的作用下，对使用者的脚部进行烘干。

技术领域

本实用新型属于沐足盆技术领域，具体涉及一种具有按摩功能的沐足盆。

背景技术

沐足盆指用于足部冲洗按摩的容器，当人体足部受到外部温度刺激时，可扩张足部血管，增高皮肤温度，加上足底反射区凸点按摩和磁力作用，推动气血津液循经上行，促进足部和全身的血液循环加速，驱散足底沉积物和消除体内的疲劳物质，确保血液循环顺畅和改善。

中国专利公开号（201710144613.6），公开了具有烘干设备的浴足装置，此专利通过脚踏隔板与风机使得脚完全烘干，这样便解放了双手，避免了双手被污染。

现有的技术存在以下问题：

1、当使用者使用完具有按摩功能的浴足盆后，需要擦干脚部，否则容易产生脚部疾病或指甲病变，通常人们使用毛巾手动擦干，很容易忽视脚丫等隐秘位置，增加真菌感染的几率；

2、使用完具有按摩功能的浴足盆后，浴足盆的内壁会残留一些脚上的污垢，较难清理，人们手动清理比较费时费力。

发明内容

为解决上述背景技术中提出的问题。本实用新型提供了一种具有按摩功能的沐足盆，具有烘干脚部和方便清理的特点。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种具有按摩功能的沐足盆，包括沐足盆本体、第一按摩凸起、盖板、出水管和按摩轮，所述沐足盆本体的内侧壁靠近端口处焊接固定有所述盖板，所述沐足盆本体的一侧固定有所述出水管，所述沐足盆本体的内部上表面固定有所述第一按摩凸起，所述沐足盆本体的内部上表面中间位置处开设容腔，所述容腔的内侧壁固定有所述按摩轮，所述沐足盆本体的前表面固定有烘干组件，所述烘干组件主要由置脚板、挡板、底板、风扇和电热框体组成，所述底板的内部上表面固定有所述风扇，所述风扇的顶端固定有所述电热框体，所述电热框体的顶端固定有所述置脚板，所述置脚板的顶端固定有所述挡板，所述电热框体的内部下表面焊接固定有电热丝，所述电热丝与外部电源电性连接，所述沐足盆本体的底端固定有储水箱，所述储水箱的一侧密封连接有水泵，所述水泵与外部电源电性连接，所述水泵的另一端密封连接有导流管，所述导流管的外表面开设若干个喷水孔。

优选的，所述烘干组件的数量为两个，分别位于所述沐足盆本体的前后两侧，且通过所述沐足盆本体呈对称固定。

优选的，所述电热丝的数量为若干个，且均匀分布在所述电热框体的内部。

优选的，所述置脚板的上表面固定有第二按摩凸起。

优选的，所述水泵的一端与所述储水箱通过管道密封连接。

优选的，所述沐足盆本体的端面开设凹槽。

优选的，所述凹槽为弧形结构，数量为两个，且两个所述凹槽的位置相对应。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、沐足盆本体两侧设有烘干组件，在沐足过后，可将脚伸入烘干组件，置于置脚板上，挡板能够将脚部部分热量进行存储，防止脚部完全暴露在空气中，通过外部电源带动电热丝进行发热，在电热框体和风扇的作用下，对使用者的脚部进行烘干；