[实用新型]一种表底精密抛光系统

说明书

本实用新型涉及一种表底精密抛光系统，包括：夹持机构、打磨机构、推进机构，所述打磨机构设置在所述夹持机构一旁；所述推进机构包括上盘和下盘，所述打磨机构设置在所述上盘上，所述上盘底部设置有连接柱，所述连接柱上套设有滚轴，并插接在所述下盘上，所述下盘上设置有至少一处缺口，所述缺口上转动连接有内杆，所述内杆外螺纹装配有套管，所述套管顶部设置有挡块。本实用新型可保证在抛光过程中，打磨机构不会因转轴的转动效果而是上盘发生转动。

技术领域

本实用新型涉及手表零部件后处理加工设备的技术领域，尤其是涉及一种表底精密抛光系统。

背景技术

表底是手表上的一个零件，其采用轧制方法制成，制成毛坯后需再经过热处理、整形、抛光等后处理。其中抛光采用特制的抛光设备，包括打磨机构和夹持机构，先将表底卡接在夹持机构上的夹具上，再将打磨机构上的磨具对准并贴合在表底上，再同时启动打磨机构和夹持机构上各自的电机，使磨具和表底同时转动，进而可快速将表底打磨。

现有的打磨机构在更换磨具后，因为新磨具尺寸比旧磨具磨损小，新磨具的尺寸略大于旧模具，可能会发生磨具与表底打磨时产生一定的角度，使表底打磨不均匀。故而亟需一种打磨机构，可任意调节磨具的转向，使表底在抛光过程中，可均匀收到磨具打磨。

实用新型内容

本实用新型提供一种表底精密抛光系统，其具有可自由调节打磨机构角度的效果。

本实用新型的上述目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种表底精密抛光系统，包括： 夹持机构；

打磨机构，所述打磨机构设置在所述夹持机构一旁；

推进机构，所述推进机构包括上盘和下盘，所述打磨机构设置在所述上盘上，所述上盘底部设置有连接柱，所述连接柱上套设有滚轴，并插接在所述下盘上，所述下盘上设置有至少一处缺口，所述缺口上转动连接有内杆，所述内杆外螺纹装配有套管，所述套管顶部设置有挡块。

通过采用上述技术方案，上盘可通过滚轴在下盘上转动，进而可任意调节打磨机构相对夹持机构的角度，调节后将内杆转动至上盘边缘处，转动套管使挡块向下移动，直至挡块接触在上盘上，继续转动套管可使上盘在挡块的夹持下固定在下盘上，从而可保证在抛光过程中，打磨机构不会因转轴的转动效果而是上盘发生转动。

进一步的，所述推进机构还包括底板，所述下盘滑动连接在所述底板上。

通过采用上述技术方案，下盘可通过在底板上的滑动可向夹持机构上推进或撤回移动，即在抛光前先将下盘远离夹持机构，待表底装夹后再将下盘推进。

进一步的，所述推进机构还包括推手，所述推手铰接在滑板上，所述下盘上设置有固定板，所述固定板上铰接有连接杆，所述连接杆的另一端铰接在所述推手上。

通过采用上述技术方案，推手、连接杆、底板均通过铰接可相互围合成三角形结构，推手向前推动可通过连接杆推动下盘向前推进，推手向后移动也通过连接杆将下盘带回。

进一步的，所述打磨机构包括第一电机，所述第一电机和磨具，所述磨具套设在所述第一电机的输出轴上。

通过采用上述技术方案，第一电机为磨具转动提供转动力，可使磨具在抛光过程中始终保持转动状态。

进一步的，所述磨具上设置有转头，所述转头呈圆台状布置，且圆台底面靠近所述第一电机布置。

通过采用上述技术方案，转头是磨具中与表底接触的主要部件，转头的圆台形侧面可贴合表底的圆台形侧面上，使转头在表底上均匀打磨。

进一步的，所述转头的侧面设置有环槽。