[实用新型]新型抛光治具机构及抛光装置有效
申请号: | 201920120835.9 | 申请日: | 2019-01-23 |
公开(公告)号: | CN209520741U | 公开(公告)日: | 2019-10-22 |
发明(设计)人: | 彭富国;刘光映 | 申请(专利权)人: | 湖南安冠智能科技有限公司;湖南三兴精密工业股份有限公司 |
主分类号: | B24B29/02 | 分类号: | B24B29/02;B24B41/04;B24B41/06 |
代理公司: | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人: | 任哲夫 |
地址: | 410000 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 治具 抛光轮主轴 驱动组件 抛光治具 自转 本实用新型 抛光装置 驱动 组件传动 组件设置 联轴器 翻转 抛光 弧面 紧凑 | ||
本实用新型公开一种新型抛光治具机构及抛光装置,其中,所述新型抛光治具机构,包括:至少两个治具组件,相邻的治具组件之间通过联轴器连接;抛光轮主轴,所述治具组件设置于抛光轮主轴上;公转驱动组件,所述公转驱动组件位于抛光轮主轴的一端,以驱动抛光轮主轴旋转并带动治具组件进行360°翻转;自转驱动组件,所述自转驱动组件位于抛光轮主轴的另一端且自转驱动组件与治具组件传动连接,以驱动治具组件进行360°旋转。本实用新型的技术方案能够实现对产品的表面进行弧面抛光,整体结构紧凑,有利于小型化结构设计。
技术领域
本实用新型涉及一种抛光设备,尤其涉及一种新型抛光治具机构及抛光装置。
背景技术
目前,传统的抛光治具机构大致包括矩阵式治具机构、行星轮式治具机构以及可自转式治具机构。对于矩阵式治具机构而言,其能够沿X方向及Y方向移动,整体实现平面移动,该治具只能实现平面抛光,无法实现弧面抛光。对于行星轮式治具机构而言,其能够进行水平旋转,适合于平面抛光,无法对弧面进行抛光。对于可自转式治具机构,在上述两者的基础上增加了治具本身的旋转,能够减少抛光行程,但是不能翻转,抛光产品处于直身位时升降行程会明显增加,会降低抛光效率,同时设备的占空面积较大。
有鉴于此,有必要提出对目前的抛光治具机构进行进一步的改进。
实用新型内容
为解决上述至少一技术问题,本实用新型的主要目的是提供一种新型抛光治具机构及抛光装置。
为实现上述目的,本实用新型采用的一个技术方案为:提供一种新型抛光治具机构,包括:
至少两个治具组件,相邻的治具组件之间通过联轴器连接;
抛光轮主轴,所述治具组件设置于抛光轮主轴上;
公转驱动组件,所述公转驱动组件位于抛光轮主轴的一端,以驱动抛光轮主轴旋转并带动治具组件进行360°翻转;
自转驱动组件,所述自转驱动组件位于抛光轮主轴的另一端且自转驱动组件与治具组件传动连接,以驱动治具组件进行360°旋转。
其中,所述治具组件包括:
治具底座,所述治具底座位于抛光轮主轴外,且安装有产品治具;
旋转轴,所述旋转轴的一端与治具底座固定连接,另一端连接有旋转接头;
深沟球轴承,所述深沟球轴承套设于旋转轴上。
其中,所述治具组件还包括设置于深沟球轴承一端的密封盖,以密封深沟球轴承露出抛光轮主轴的部分。
其中,所述治具组件还包括:
减速机,所述减速机位于抛光轮主轴内且与旋转轴传动连接。
其中,还包括负压表,所述负压表与治具组件连接,以对治具组件的抽真空进行检测。
其中,所述治具组件的数量为10个,10个治具组件呈线性分布。
其中,所述新型抛光治具机构包括两组公转驱动组件、自转驱动组件及抛光轮主轴,一组公转驱动组件、自转驱动组件及抛光轮主轴组成第一抛光机构,另一组公转驱动组件、自转驱动组件及抛光轮主轴组成第二抛光机构,所述第一抛光机构与第二抛光机构并排设置。
其中,所述抛光轮主轴设有呈线性分布的5个治具组件。
为实现上述目的,本实用新型采用的另一个技术方案为:提供一种抛光装置,包括上述的新型抛光治具机构。
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