[实用新型]一种矽晶片切割装置有效

专利信息
申请号: 201920120891.2 申请日: 2019-01-23
公开(公告)号: CN209461420U 公开(公告)日: 2019-10-01
发明(设计)人: 李翔 申请(专利权)人: 佛山市南海益晶科技有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/687;H01L21/677
代理公司: 武汉明正专利代理事务所(普通合伙) 42241 代理人: 张伶俐
地址: 528000 广东省佛山*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 吸盘组件 矽晶片 导轨 本实用新型 第二滑块 第一滑块 伺服电机 底板 吸盘 激光切割器 滑动连接 间隔分布 切割装置 负压泵 立梁 多方位移动 导轨横向 导轨纵向 固定作用 上端 负压力 输出端 移动 吸住 连通 切割 转换
【说明书】:

实用新型公开了一种矽晶片切割装置,立梁固定于底板的其中一侧边,立梁的上端设置有两个间隔分布的第一导轨,第一滑块滑动连接于所述第一导轨,第一滑块的上部设置有两个间隔分布的第二导轨,第二滑块滑动连接于第二导轨,激光切割器安装于第二滑块的下部;底板上安装有伺服电机,伺服电机的输出端安装有吸盘组件,吸盘组件上设置有多个吸盘,负压泵连通于吸盘组件。本实用新型有益效果:本实用新型第一滑块沿第一导轨纵向移动,第二滑块沿第二导轨横向移动,使得激光切割器多方位移动,便于切割,伺服电机带动矽晶片旋转,转换方向,负压泵为吸盘组件提供负压力,吸盘用于吸住矽晶片起到固定作用。

技术领域

本实用新型涉及矽晶片技术领域,尤其是一种矽晶片切割装置。

背景技术

元素硅是一种灰色、易碎、四价的非金属化学元素。地壳成分中27.8%是硅元素构成的,仅次于氧元素含量排行第二,硅是自然界中比较富的元素。在石英、玛瑙、燧石和普通的滩石中就可以发现硅元素。硅晶片又称晶圆片,是由硅锭加工而成的,通过专门的工艺可以在硅晶片上刻蚀出数以百万计的晶体管,被广泛应用于集成电路的制造,半导体或芯片是由硅生产出来的。晶圆片上刻蚀出数以百万计的晶体管,这些晶体管比人的头发要细小上百倍。半导体通过控制电流来管理数据,形成各种文字、数字、声音、图像和色彩。它们被广泛用于集成电路,并间接被地球上的每个人使用。这些应用有些是日常应用,如计算机、电信和电视,还有的应用于先进的微波传送、激光转换系统、医疗诊断和治疗设备、防御系统和NASA航天飞机。随着社会的发展,越来越多的硅晶片被人们所使用,对于硅晶片的需求量也越来越大,硅晶片在制作时需要很好的切割,才能保证硅晶片的质量。

因此,对于上述问题有必要提出一种矽晶片切割装置。

实用新型内容

针对上述现有技术中存在的不足,本实用新型的目的在于提供一种矽晶片切割装置。

一种矽晶片切割装置,包括底板、立梁、第一导轨、第二导轨、第一滑块、第二滑块、负压泵和激光切割器,所述立梁固定于所述底板的其中一侧边,所述立梁的上端设置有两个间隔分布的所述第一导轨,所述第一滑块滑动连接于所述第一导轨,所述第一滑块的上部设置有两个间隔分布的所述第二导轨,所述第二滑块滑动连接于所述第二导轨,所述激光切割器安装于所述第二滑块的下部;所述底板上安装有伺服电机,所述伺服电机的输出端安装有吸盘组件,所述吸盘组件上设置有多个吸盘,所述负压泵连通于所述吸盘组件。

与现有技术相比,本实用新型有益效果:本实用新型设置有第一导轨、第二导轨、第一滑块、第二滑块、负压泵和激光切割器,第一滑块沿第一导轨纵向移动,第二滑块沿第二导轨横向移动,使得激光切割器多方位移动,便于切割,伺服电机带动矽晶片旋转,转换方向,负压泵为吸盘组件提供负压力,吸盘用于吸住矽晶片起到固定作用。

进一步的,所述立梁的一端安装有第一伸缩气缸,所述第一伸缩气缸的输出端固定于所述第一滑块。

采用进一步的技术方案有益效果:第一伸缩气缸为第一滑块提供驱动力。

进一步的,所述第一滑块的其中一端安装有第二伸缩气缸,所述第二伸缩气缸的输出端固定于所述第二滑块。

采用进一步的技术方案有益效果:第二伸缩气缸为第二滑块提供驱动力。

进一步的,所述第一伸缩气缸和第二伸缩气缸均连通有气泵。

采用进一步的技术方案有益效果:气泵分别为第一伸缩气缸和第二伸缩气缸提供气源。

进一步的,所述负压泵、气泵和伺服电机均电连接有控制器。

采用进一步的技术方案有益效果:控制器控制负压泵、气泵和伺服电机,提高工作效率。

进一步的,所述第二滑块的下部设置有限位器。

采用进一步的技术方案有益效果:限位器起到限位作用。

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