[实用新型]一种NPN型高压大电流超高功率晶体管有效
申请号: | 201920128650.2 | 申请日: | 2019-01-25 |
公开(公告)号: | CN209216980U | 公开(公告)日: | 2019-08-06 |
发明(设计)人: | 龚利汀;易琼红;左勇强 | 申请(专利权)人: | 无锡固电半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/732 | 分类号: | H01L29/732;H01L29/08;H01L29/10 |
代理公司: | 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 | 代理人: | 曹祖良 |
地址: | 214028 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发射区 基区 源区 本实用新型 高压大电流 晶体管单元 超高功率 外延层 晶体管 结深 环绕 半导体晶体管 发射极电极 终端保护区 二次击穿 基极电极 器件版图 上下两侧 并联 发散 减小 两组 窄基 对称 外围 | ||
1.一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,包括有源区(001)和环绕在所述有源区(001)外围的终端保护区(002),所述有源区(001)包括若干个相互并联的晶体管单元,其特征在于,所述晶体管单元包括N-外延层(3)、位于N-外延层(3)内的P-基区(4)及位于所述P-基区(4)两侧的P+基区(5),在所述P+基区(5)间设有N+发射区(6)及环绕在所述N+发射区(6)四周的N+环(7),所述N+发射区(6)和N+环(7)的结深相同,且均小于P-基区(4)的结深。
2.根据权利要求1所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,在有源区(001)内,在所述P+基区(5)上覆盖有第一基区金属条(52),在所述N+发射区(6)上覆盖有第一发射区金属条(62),所述第一基区金属条(52)、第一发射区金属条(62)间均通过绝缘层介质(10)隔离。
3.根据权利要求2所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,在有源区(001)内,所述N+发射区(6)由若干等距间隔排列的柱状发射区晶格单元(61)组成,所述柱状发射区晶格单元(61)通过第一发射区金属条(62)分别与第一发射极电极(6a)、第二发射极电极(6b)连接,所述第一发射极电极(6a)和第二发射极电极(6b)间通过第二发射区金属条(63)连接导通。
4.根据权利要求2所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,在有源区(001)内,所述P+基区(5)由若干等距离间隔排列的条状基区晶格单元(51)组成,所述条状基区晶格单元(51)通过第一基区金属条(52)分别与第一基极电极(5a)、第二基极电极(5b)连接,所述第一基极电极(5a)和第二基极电极(5b)间通过第二基区金属条(53)连接导通。
5.根据权利要求1所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,在有源区(001)内,在所述N-外延层(3)下方邻接有N+衬底层(2),在所述N+衬底层(2)下方邻接有用于引出晶体管集电极C的背面金属层(1)。
6.根据权利要求1所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,在终端保护区(002),包括背面金属层(1)、位于背面金属层(1)上且与其邻接的N+衬底层(2)及位于N+衬底层(2)上且与其邻接的N-外延层(3),从有源区(001)指向终端保护区(002)的方向上,在所述N-外延层(3)内依次设有三个等间距的P+型保护环(8)及一个N+型保护环(9)。
7.根据权利要求6所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,所述P+型保护环(8)的结深大于N+型保护环(9)的结深。
8.根据权利要求1所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,所述P-基区(4)的结深与P+基区环(5)的结深相同。
9.根据权利要求2所述的一种NPN型高压大电流超高功率晶体管,其特征在于,所述绝缘层介质(10)为PSG/SiO2/Si3N4的钝化层。
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