[实用新型]超净高纯氢氟酸生产线有效

专利信息
申请号: 201920159166.6 申请日: 2019-01-29
公开(公告)号: CN210012588U 公开(公告)日: 2020-02-04
发明(设计)人: 殷泼淸;吕秀军 申请(专利权)人: 江阴市化学试剂厂有限公司
主分类号: C01B7/19 分类号: C01B7/19
代理公司: 11638 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 王新爱
地址: 214420 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 反应釜 预混罐 纯水罐 本实用新型 纯氢氟酸 管路连通 液氨罐 串接 净高 减压阀 过滤器 顶部进液口 单向阀 计量阀 氢氟酸 蒸馏器
【说明书】:

本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线,所述生产线包含有液氨罐(1)、纯水罐(2)、预混罐(3)、反应釜(4)、蒸馏器(5)和过滤器(6),所述液氨罐(1)通过串接有减压阀(1.1)和单向阀(1.2)的管路连通至预混罐(3)和反应釜(4)的底部,所述纯水罐(2)位于预混罐和反应釜(4)的上方,且纯水罐(2)的底部通过串接有计量阀(2.1)的管路连通至预混罐(3)和反应釜(4)的顶部进液口。本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线,其能够有效的提高氢氟酸的纯度。

技术领域

本实用新型涉及一种氢氟酸生产线,尤其是涉及一种应用于半导体电子行业的超高纯氢氟酸的制备生产线,属于化工技术领域。

背景技术

目前,中国已成为全球电子产品及相关化学品的主要市场之一;在近年来国内半导体电子产业的快速发展过程中,高纯电子级超高纯氢氟酸的需求量急剧增长,超净高纯氢氟酸在集成电路、LCD等制造行业中有着重要作用:在这些电子产品的制备过程中,需要利用氢氟酸消除其表面颗粒、部分金属不纯物。因此,超高纯氢氟酸广泛应用于在芯片等半导体的清洗及蚀刻工艺中。但是,国内的氢氟酸生产工艺流程复杂,设备装置较多,容易造成高纯氢氟酸的污染。

发明内容

本实用新型的目的在于克服上述不足,提供一种超净高纯氢氟酸生产线,其能够有效的提高氢氟酸的纯度。

本实用新型的目的是这样实现的:

一种超净高纯氢氟酸生产线,所述生产线包含有液氨罐、纯水罐、预混罐、反应釜、蒸馏器和过滤器,所述液氨罐通过串接有减压阀和单向阀的管路连通至预混罐和反应釜的底部,所述纯水罐位于预混罐和反应釜的上方,且纯水罐的底部通过串接有计量阀的管路连通至预混罐和反应釜的顶部进液口;

所述预混罐内竖向安装有一进液管一,该进液管一的顶部与预混罐的顶部进液口相连通,进液管一的底部靠近预混罐的底部;所述预混罐内横向安装有一喷淋管一,该喷淋管一位于预混罐内上部,且喷淋管一与进液管一相连通;

所述反应釜内竖向安装有一进液管二,该进液管二的顶部与反应釜的顶部进液口相连通,进液管二的底部靠近反应釜的底部,且进液管二上安装有一球阀;反应釜内横向安装有一喷淋管二,一呈倒置的U形结构的连通管上串接有泵,且连通管的一端穿过反应釜的顶部与喷淋管二相连通;

蒸馏器的进液口通过串接有抽液泵一的管路连通至反应釜的底部,蒸馏器的的出液口通过串接有抽液泵二的管路连通至过滤器的进液口,所述过滤器的出液口输出超高纯氢氟酸。

本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线,所述反应釜设置有多个,且反应釜上的连通管的一端穿过反应釜的顶部与喷淋管二相连通后,该连通管的另一端插置于前一级的反应釜的底部,位于第一级的反应釜上的连通管插置于预混罐的底部;蒸馏器的进液口通过串接有抽液泵一的管路连通至位于最后一级的反应釜的底部。

本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线,所述蒸馏器为减压蒸馏装置。

本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线,所述过滤器采用离子膜过滤器。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

本实用新型通过液氨纯水在预混罐和多级反应釜的协同作用下制得饱和纯氢氟酸,并且通过蒸馏器和过滤器进行多道次的提纯和过滤,进一步保证了氢氟酸的纯度,使得其可以用于电子产业的生产上。

附图说明

图1为本实用新型一种超净高纯氢氟酸生产线的结构示意图。

其中:

液氨罐1、纯水罐2、预混罐3、反应釜4、蒸馏器5、过滤器6;

减压阀1.1、单向阀1.2;

计量阀2.1;

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