[实用新型]一种镀篮用分散机构有效

专利信息
申请号: 201920172378.8 申请日: 2019-01-31
公开(公告)号: CN209555398U 公开(公告)日: 2019-10-29
发明(设计)人: 王国刚;李文广;王国芳 申请(专利权)人: 广东星耀光大智能装备有限公司
主分类号: C25D17/22 分类号: C25D17/22
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 陈娟
地址: 518000 广东省肇*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 水流道 陀螺 孔道 镀篮 分散机构 片式器件 圆台 本实用新型 电镀 上大下小结构 上端横截面 底部锥尖 分流导向 导向槽 上锥面 支撑杆 下端 喷射 流动
【说明书】:

实用新型涉及镀篮技术领域,尤其是一种镀篮用分散机构,包括分散陀螺,所述分散陀螺的中部设有水流道,所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺支撑杆,所述分散锥的底部锥尖位于水流道顶端的上侧,所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成,所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧,所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积,本实用新型提出的陀螺分散机构的水流道采用上大下小结构,使片式器件在流动的时候,速度更加均匀,采用导向槽和分散锥的结构,使片式器件在水流道喷射后起到分流导向作用,使片式器件规则的回到镀篮底部,实现循环电镀,提高电镀质量。

技术领域

本实用新型涉及镀篮技术领域,尤其涉及一种镀篮用分散机构。

背景技术

电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面上镀上一薄层其它金属或合金的过程,是利用电解作用使金属或其它材料制件的表面附着一层金属膜的工艺从而起到防止金属氧化(如锈蚀),提高耐磨性、导电性、反光性、抗腐蚀性(硫酸铜等)及增进美观等作用。不少硬币的外层亦为电镀,传统片式器件如片式阻(R)、容(C)、感(L)基础元件在电镀时,传统电镀镀篮所使用的分散机构使用时片式器件流动不顺畅,从而导致电镀效果不好,为此我们提出一种镀篮用分散机构。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种镀篮用分散机构。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

设计一种镀篮用分散机构,包括分散陀螺,所述分散陀螺的中部设有水流道,所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺分散片,所述陀螺分散片的顶部设有陀螺支撑杆,所述陀螺支撑杆的上端连接有分散盖,所述分散盖通过支撑杆与镀篮盖连接,所述分散盖的纵向截面为T字形,所述分散盖的横向截面为圆形,所述分散盖的下端面中部留有导向槽,所述导向槽位于水流道顶端的上侧,所述导向槽为锥形槽,且锥形槽的下端横截面大于上端横截面,锥形槽的下端横截面直径大于水流道的上端横截面直径,所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成,所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧,所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

一种镀篮用分散机构,包括分散陀螺,所述分散陀螺的中部设有水流道,所述分散陀螺的上锥面等距离设有陀螺支撑杆,所述陀螺支撑杆的上端与镀篮盖连接,所述分散锥的顶部为圆柱体,所述圆柱体的上端与镀篮盖螺接,所述分散锥的底部锥尖位于水流道顶端的上侧,所述水流道由圆柱孔道和圆台孔道组成,所述圆台孔道位于圆柱孔道的下侧,所述圆台孔道的下端横截面积大于上端横截面积。

优选的,所述陀螺分散片为梯形,且陀螺分散片的上侧支撑分散盖的下端。

优选的,所述分散陀螺的上锥面坡度大于分散陀螺下锥面坡度。

优选的,所述陀螺分散片的数量为3个。

优选的,所述陀螺支撑杆的数量均为3个。

本实用新型提出的一种镀篮用分散机构,有益效果在于:本实用新型提出的陀螺分散机构的水流道采用上大下小结构,使片式器件在流动的时候,速度更加均匀,采用导向槽和分散锥的结构,使片式器件在水流道喷射后起到分流导向作用,使片式器件规则的回到镀篮底部,实现循环电镀,提高电镀质量。

附图说明

图1为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的主视结构示意图;

图2为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的剖视结构示意图;

图3为本实用新型提出的第一种镀篮用分散机构的装配镀篮结构示意图;

图4为本实用新型提出的第二种镀篮用分散机构的主视结构示意图;

图5为本实用新型提出的第二种镀篮用分散机构的剖视结构示意图;

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