[实用新型]光栅耦合器及光学相控阵装置有效
| 申请号： | 201920173813.9 | 申请日： | 2019-01-30 |
| 公开（公告）号： | CN209590342U | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 侯昌韬;马丁昽 | 申请（专利权）人： | 深圳市速腾聚创科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B6/42 | 分类号： | G02B6/42;G02B6/124;G02B6/13 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 李文渊 |
| 地址： | 518051 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 耦合光栅 光波导 光栅耦合器 反射光栅 光栅层 光学相控阵 硅氧化物层 硅基 本实用新型 激光反射 激光引导 同层设置 兼容 激光 申请 | ||
1.一种光栅耦合器，用于对激光进行耦合，其特征在于，所述光栅耦合器包括：
硅基底；
硅氧化物层，形成于所述硅基底上；及
光栅层，形成于所述硅氧化物层上；其中，所述光栅层包括同层设置的光波导、耦合光栅及反射光栅，所述光波导、反射光栅分别设置于所述光栅层的两端，所述耦合光栅设置于所述光波导和所述反射光栅之间；所述耦合光栅用于接收所述激光并将所述激光引导至所述光波导，所述反射光栅用于将未被所述耦合光栅引导至所述光波导的激光反射回所述耦合光栅。
2.根据权利要求1所述的光栅耦合器，其特征在于，还包括折射率匹配层，所述折射率匹配层形成于所述光栅层上，所述折射率匹配层用于减少所述激光在所述光栅层上的反射。
3.根据权利要求1所述的光栅耦合器，其特征在于，所述耦合光栅为全刻蚀光栅、浅刻蚀光栅、均匀光栅和二元闪耀光栅中的任意一种。
4.根据权利要求1所述的光栅耦合器，其特征在于，所述反射光栅为布拉格反射光栅。
5.根据权利要求3所述的光栅耦合器，其特征在于，所述耦合光栅的光栅周期为400纳米-1000纳米。
6.根据权利要求4所述的光栅耦合器，其特征在于，所述反射光栅的光栅周期为50纳米-600纳米。
7.根据权利要求1所述的光栅耦合器，其特征在于，所述耦合光栅与所述反射光栅之间的间隔为50纳米-500纳米。
8.根据权利要求1所述的光栅耦合器，其特征在于，所述光栅层的厚度为170纳米-270纳米。
9.一种光学相控阵装置，包括：
激光源，用于辐射预设波长的激光；
光学相控模块，用于对所述激光的相位进行调制；及
用于将所述激光耦合至所述光学相控模块的光耦合器；
其特征在于，所述光耦合器为权利要求1-8任一项所述的光栅耦合器。
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