[实用新型]一种应用于同步辐射的电离室

权利要求书

1.一种应用于同步辐射的电离室，包括：壳体，设置于壳体内侧的整体电极集成，设置于壳体外侧的两个法兰盖板、两个窗口封膜、高压插座、信号插座、两个快接气嘴；

其中，所述整体电极集成包括保护环、信号电极、高压电极、多个绝缘连接块和四个绝缘支架，所述保护环和所述信号电极通过多个所述绝缘连接块固定连接构成信号电极集成，所述信号电极集成与所述高压电极平行相对放置，所述信号电极集成与所述高压电极的四角插入所述绝缘支架进行固定，所述绝缘支架分别与所述保护环和所述高压电极相接触；

所述高压插座、所述信号插座以及两个所述快接气嘴固定于所述壳体外侧，所述信号电极与所述信号插座相连接，所述高压电极与所述高压插座相连接，所述保护环与所述壳体相连接；

所述壳体两端分别与所述法兰盖板连接，中间放置密封胶圈，法兰盖板的预设位置内顺序放置密封胶垫、窗口封膜及胶圈压盘。

2.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述绝缘连接块的个数与所述信号电极的长度相匹配，所述保护环的尺寸与所述信号电极的尺寸相契合，所述保护环套在所述信号电极上，所述保护环与所述信号电极通过螺丝固定于所述绝缘连接块。

3.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述绝缘支架包括4个，所述绝缘支架的高度与所述壳体内径相契合。

4.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述信号电极引出线与所述信号插座的芯线相连接，所述高压电极的引出线与所述高压插座的芯线相连接，所述保护环的引出线与所述壳体相连接。

5.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述快接气嘴包括两个，所述壳体外侧两端各设置一个气体接口，所述快接气嘴通过所述气体接口固定在所述壳体上。

6.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述壳体外侧两端分别设置有气密信号引出接口及高压馈入接口，所述信号插座通过所述气密信号引出接口固定在所述壳体上，所述高压插座通过所述高压馈入接口固定在所述壳体上。

7.根据权利要求1所述的电离室，其特征在于，所述法兰盖板通过法兰螺丝与所述壳体相连接。

8.根据权利要求1-7任一项所述的电离室，其特征在于，所述法兰盖板中间设置有矩形窗口，所述窗口周围设置有凹槽。

9.根据权利要求8所述的电离室，其特征在于，所述胶圈压盘与所述凹槽相匹配，所述密封胶垫放置在所述凹槽中，其上放置所述窗口封膜，再通过螺丝连接所述胶圈压盘。