[实用新型]压力可控的注射式过滤装置

说明书

本实用新型公开了一种压力可控的注射式过滤装置，其特征在于：包括一竖直设置的长条状固定件，所述固定件上设有多个固定口，自上而下依次为气缸固定口、注射器固定口和多个过滤器固定口；所述气缸固定口内可拆式安装有气缸，所述气缸的活塞杆一端向下伸出，构成活动推杆，所述气缸上设有气管接口，所述气管接口经气体调压表连接压力气体管路；所述注射器固定口内放置有注射口向下布置的注射器，注射器的注射器推杆与所述活动推杆下端接触；所述多个过滤器固定口内分别放置有水平布置的过滤器，注射器的注射口与最上一个过滤器套接，各过滤器依次连接，最下端的出口下方对准接收瓶的瓶口。本实用新型快速简便地完成光刻胶样品的过滤操作，特别适合用于研发中的小样过滤。

技术领域

本实用新型涉及一种控制光刻胶颗粒度的处理装置，具体涉及一种用于光刻胶产品研发阶段的小样过滤装置。

背景技术

在半导体工业中，光刻胶是芯片及器件制造的关键材料。通常，光刻胶产品都要求将颗粒度、水分和金属杂质等指标控制在较低的范围，以保证在制造过程中芯片不会被光刻胶沾污而影响电路性能。光刻胶内的颗粒物，会随着光刻工序附着在晶圆上，使微电路被颗粒物断路，造成缺陷，进而影响整批半导体产品的良率。随着集成电路尺寸不断减小，对集成电路制造过程中光刻胶的颗粒度要求也不断提高。一般来说，90nm技术节点需要控制的颗粒范围为0.4微米，而到了14nm技术节点的颗粒控制范围为0.05微米。

目前，对光刻胶颗粒度的控制，通常采用过滤方式实现。例如，中国发明专利申请CN109254500A公开了一种具有多重过滤能力的光刻胶输送系统，其中包括：一光刻胶瓶；一光刻胶过滤系统，光刻胶过滤系统包括第一光刻胶储存罐、光刻胶过滤器组、第一光刻胶缓冲罐、第一光刻胶压缩泵、第二光刻胶储存罐、第二光刻胶缓冲罐；一光刻胶喷涂系统，光刻胶喷涂系统包括第二光刻胶压缩泵、第三光刻胶缓冲罐、喷嘴。该方案通过把整个光刻胶输送系统分为过滤系统与喷涂系统，在过滤系统中增加压缩泵和多个过滤器，同时增加循环回路，以进行循环过滤提高过滤效果，在喷涂系统中增加压缩泵，能够精确地输送光刻胶的喷涂，进一步提高光刻胶喷涂的稳定性。

当前，我国正在大力发展半导体产业，光刻胶也是重点之一。在光刻胶的研发过程中，需要多次进行光刻性能评估。在研发过程中的光刻胶样品不可避免地包含大量的颗粒物，如果不能有效除去，必然会沾污光刻机，从而影响光刻胶样品的评估结果。然而，目前光刻胶产品生产所使用的颗粒过滤设备，例如上述CN109254500A公开的设备，结构复杂、占地面积大、操作繁琐，不能直接用于研发阶段的小样过滤。另一方面，与生产阶段不同，在研发过程中并没有严格的颗粒控制，光刻胶样品必然会包含大量难以过滤的小颗粒，在采用常规过滤手段时，存在过滤效果差，时常发生过滤器堵塞的现象，大大消耗操作员的人力。因此，开发一种适用于光刻胶小样过滤的装置势在必行。

发明内容

本实用新型的发明目的是提供一种压力可控的注射式过滤装置，以适应光刻胶小样研发时的颗粒过滤需求，并为后续生产工艺积累控制参数。

为达到上述发明目的，本实用新型采用的技术方案是：一种压力可控的注射式过滤装置，包括一竖直设置的长条状固定件，所述固定件上设有多个固定口，自上而下依次为气缸固定口、注射器固定口和多个过滤器固定口；所述气缸固定口内可拆式安装有气缸，所述气缸的活塞杆一端向下伸出，构成活动推杆，所述气缸上设有气管接口，所述气管接口经气体调压表连接压力气体管路；所述注射器固定口内放置有注射口向下布置的注射器，注射器的注射器推杆与所述活动推杆下端接触；所述多个过滤器固定口内分别放置有水平布置的过滤器，注射器的注射口与最上一个过滤器套接，各过滤器依次连接，最下端的出口下方对准接收瓶的瓶口。

上述技术方案中，所述固定件采用洁净材料制成，例如采用铝材、316L的不锈钢或HDPE等四氟材料。

使用时，包括如下步骤：

A、将抽取好光刻胶样品的注射器套接过滤器，然后放入本装置的固定口内；