[实用新型]应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置有效
| 申请号： | 201920231117.9 | 申请日： | 2019-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN209584361U | 公开（公告）日： | 2019-11-05 |
| 发明（设计）人： | 王雪涛;李玉新;宋蕊立 | 申请（专利权）人： | 河北惟新科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 050000 河北省石家庄市高新区长江大*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 坯体 承烧板 支撑座 靶材 倾斜设置 烧结窑 本实用新型 架设装置 水平设置 烧结 上端面 上端 烧结成品率 氧气气流 氧气通过 内支架 透氧率 承托 挡块 匀布 收缩 应用 承载 分解 贯穿 | ||
【权利要求书】：
1.应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置，其特征在于：包括水平设置在烧结窑内支架(6)上的支撑座(2)，所述支撑座的上端面倾斜设置，倾斜设置的支撑座上端面上放置有用于承载ITO靶材坯体的承烧板(3)，承烧板的上端面上匀布有若干条贯穿承烧板前后、用于流过氧气气流的沟槽(31)；位于较低端的支撑座倾斜上端面端部设置有承托承烧板和ITO靶材坯体(4)的挡块(5)。
2.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置，其特征在于：多条沟槽间平行且呈水平状设置。
3.根据权利要求2所述的应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置，其特征在于：所述沟槽(31)的纵截面为长方形状，沟槽顶部的宽度小于相邻沟槽间承烧板顶端面的宽度。
4.根据权利要求1所述的应用于烧结窑内的ITO靶材架设装置，其特征在于：所述支撑座倾斜设置的上端面的倾斜度为30～60°。
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