[实用新型]一种有效去除水中硅化合物的新型活性碳酸氢镁生产器有效
申请号: | 201920246814.1 | 申请日: | 2019-02-27 |
公开(公告)号: | CN209618905U | 公开(公告)日: | 2019-11-12 |
发明(设计)人: | 张炳松;张蓉;魏梦碧 | 申请(专利权)人: | 杭州英普环境技术股份有限公司 |
主分类号: | C01F5/24 | 分类号: | C01F5/24;C02F1/52;C02F101/10 |
代理公司: | 浙江英普律师事务所 33238 | 代理人: | 陈俊志;郭锦春 |
地址: | 310011 浙江省杭州*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 活性碳酸 水镁石 床体 滤板 氢镁 石英砂填料层 硅化合物 出水管 混合水 进料管 生产器 池体 两相 水中 去除 本实用新型 碱性条件 经济实用 快速生成 氢氧化镁 依次设置 体内 建造 灵活 | ||
一种有效去除水中硅化合物的新型活性碳酸氢镁生产器,包括池体以及设置在所述池体内的水镁石床体层、滤板、石英砂填料层,所述滤板、石英砂填料层、水镁石床体层自下而上依次设置,所述池体还设有CO2混合水两相进料管、出水管,所述CO2混合水两相进料管设置在滤板下方,所述出水管设置在水镁石床体层上方。本实用新型产生的活性碳酸氢镁在碱性条件下快速生成氢氧化镁的同时,发挥活性Mg2+的作用,除硅效果显著提升,且设计简洁灵活,建造成本低,经济实用。
技术领域
本实用新型涉及一种水处理设备,具体涉及一种有效去除水中硅化合物的新型活性碳酸氢镁生产器。
背景技术
在工业用水中,硅化合物易于形成硅垢,且由于硅垢坚硬致密,很难用常规的方法清洗,严重影响设备的正常运行,从而对生产过程产生不同程度的危害。因此寻找一种简单、快速、经济有效的除硅工艺对于工业生产的稳定运行具有非常重要的意义。
目前,在水处理领域应用比较广泛且成本较低的除硅工艺为化学混凝法。常规的除硅混凝药剂有镁剂、铝剂和铁剂等。常用的镁剂有氧化镁和氢氧化镁,其除硅机理为:含有氢氧化镁的粒子表面吸附硅酸化合物,形成难溶的硅酸镁。氢氧化镁在碱性条件下本身即为沉淀,因此只能通过吸附共沉淀来去除水中的硅化合物。但有研究显示当pH≥10.0时,Mg2+与HSiO3-、SiO32-接触反应生成MgSiO3,其表面可继续吸附未反应的HSiO3-和SiO32-。因此,为提高镁的利用率,需在发挥氢氧化镁吸附作用的同时,充分发挥活性Mg2+的作用。本发明基于此机理,研发了一种新型的活性碳酸氢镁生产器。
发明内容
本实用新型的目的是提供一种提高镁利用率、优化硅去除效果的活性碳酸氢镁生产器。
本实用新型包括池体以及设置在所述池体内的水镁石床体层、滤板、石英砂填料层,所述滤板、石英砂填料层、水镁石床体层自下而上依次设置,所述池体还设有CO2混合水两相进料管、出水管,所述CO2混合水两相进料管设置在滤板下方,所述出水管设置在水镁石床体层上方。
进一步的,所述石英砂填料层、水镁石床体层高度比为1:10~1:20。
进一步的,所述池体最上方还设有水镁石储槽,所述水镁石储槽下方设有补料管,所述补料管的下方出口设于水镁石床体层上部。
进一步的,所述石英砂填料层、水镁石床体层高度比为1:15。
进一步的,所述水镁石储槽设有滑动盖板。
进一步的,所述补料管均匀分布在水镁石储槽下方且补料管出口与水镁石床体层接触。
本实用新型同现有技术相比具有以下优点及效果:
1、产生的活性碳酸氢镁在碱性条件下快速生成氢氧化镁的同时,发挥活性Mg2+的作用,除硅效果显著提升;
2、反应器设计简洁灵活,可实现模块化应用。
3、此发明建造成本低,经济实用。
附图说明
图1是本发明一种有效去除水中硅化合物的新型活性碳酸氢镁生产器结构示意图;
标号说明:
1-池体 2-水镁石床体层 3-滤板 4-石英砂填料层 5-CO2混合水两相进料管 6-水镁石储槽 7-补料管 8-出水管。
具体实施方式
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