[实用新型]一种滚轮装置及水膜机刻蚀系统

说明书

本实用新型实施例提供了一种滚轮装置，所述滚轮装置包括M个滚轮本体、卡槽和垫片，所述M个滚轮本体平行且等间距的排列在同一平面上；所述M个滚轮本体均通过齿轮连接外部电机；在第N个滚轮本体的下方设置有卡槽，其中，1<N<M；所述卡槽中设置有垫片，所述垫片将所述第N个滚轮本体整体向上移动。本实用新型还提出了一种水膜机刻蚀系统。本实用新型通过在待加工零件进入刻蚀槽之前的滚轮装置中改变其中一个滚轮本体的高度，从而使待加工零件在该滚轮本体处发生抖动。通过抖动可以将多余的水抖动下去，也可以将少量的水铺满整个待加工零件的表面，从而有效的解决了水膜机存在的喷水量过多或偏少所造成的影响。

技术领域

本实用新型涉及晶硅太阳能电池生产加工领域，尤其涉及一种滚轮装置及水膜机刻蚀系统

背景技术

在晶硅太阳能电池生产过程中,一般刻蚀工段主要采用湿法刻蚀工艺，其主要目的是去除硅片边缘的PN结和磷硅玻璃(PSG)。其中刻蚀槽的目的是去除边缘PN结，酸槽目的是去除磷硅玻璃(PSG)。

在实际生产过程中，为了防止刻蚀过程中出现过刻外观不良，都会使用到水膜机。水膜机的作用即在硅片进入刻蚀槽前，在硅片的上表面均匀的铺满一层DI水膜。

目前，公知的水膜机在使用过程中，水膜的喷水量直接决定着刻蚀槽内化学品的耗量及产品的质量。若调大水膜的水量，保证产品质量的情况下，过多的水被带到刻蚀槽内，稀释了化学品浓度，从而使刻蚀槽内化学品的耗量大大增加；若调小水膜的水量，保证化学品耗量的情况下，硅片极有可能出现因水膜未完全覆盖硅片而导致过刻不良产品出现。目前尚没有能够很好解决水膜机喷水量过多或偏少所带来的不足和缺陷的方法。

发明内容

为了解决上述至少一个问题，本实用新型提供了一种滚轮装置及水膜机刻蚀系统。

本实用新型实施例第一方面提供了一种滚轮装置，所述滚轮装置包括M个滚轮本体、卡槽和垫片，所述M个滚轮本体平行且等间距的排列在同一平面上；所述M个滚轮本体均通过齿轮连接外部电机；在第N个滚轮本体的下方设置有卡槽，其中，1<N<M；所述卡槽中设置有垫片，所述垫片将所述第N个滚轮本体整体向上移动。

优选地，所述M个滚轮本体的两端均通过齿轮连接外部电机，所述齿轮设置在齿轮箱中。

优选地，所述第N个滚轮本体两端下方均设置有卡槽，且所述第N个滚轮本体两端下方的卡槽位于两端的齿轮箱之间，所述第N个滚轮本体两端下方的卡槽中分别设置有高度相同的垫片。

优选地，所述第N个滚轮本体的中心支点下方设置有卡槽，所述第N个滚轮本体的中心支点下方的卡槽中设置有垫片。

优选地，所述卡槽与垫片之间通过胶粘连接。

本实用新型实施例第二方面提供了一种水膜机刻蚀系统，所述系统包括水膜机、刻蚀槽和滚轮装置，所述滚轮装置传输待加工零件至刻蚀槽；

所述滚轮装置包括M个滚轮本体、卡槽和垫片，所述M个滚轮本体平行且等间距的排列在同一平面上；所述M个滚轮本体均通过齿轮连接外部电机；在第N个滚轮本体的下方设置有卡槽，其中，1<N<M；所述卡槽中设置有垫片，所述垫片将所述第N个滚轮本体整体向上移动；

所述水膜机在滚轮装置传输待加工零件时，在待加工零件到达所述第N个滚轮本体之前对待加工零件上表面涂覆水膜。

优选地，所述M个滚轮本体的两端均通过齿轮连接外部电机，所述齿轮设置在齿轮箱中。

优选地，所述第N个滚轮本体两端下方均设置有卡槽，且所述第N个滚轮本体两端下方的卡槽位于两端的齿轮箱之间，所述第N个滚轮本体两端下方的卡槽中分别设置有高度相同的垫片。

优选地，所述第N个滚轮本体的中心支点下方设置有卡槽，所述第N个滚轮本体的中心支点下方的卡槽中设置有垫片。