[实用新型]一种超薄薄膜电化学沉积系统

权利要求书

1.一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：包括

放卷模块，所述放卷模块用于放卷膜面；放卷模块将膜面经轮组送至前处理模块，

前处理模块，用于微蚀洗及清洁膜面的表面；前处理模块将清洁后的膜面经轮组送至第一沉积模块，

第一沉积模块，用于对膜面的双面预镀沉积复合铜层；第一沉积模块将双面预镀后的膜面送至第二沉积模块，

第二沉积模块，用于对膜面的复合铜层进行双面增厚沉积铜层；第二沉积模块将沉积完成的模块送至清洗模块，

清洗模块，用于对膜面进行清洗；清洗模块将清洗完毕的膜面送至保护层沉积模块，

保护层沉积模块，用于在清洗后的膜面上沉积保护层；保护层模块将沉积后的膜面送至后处理模块，

后处理模块，用于对膜面进行清洁、烘干、切割；后处理模块将处理完毕的膜面送至收卷模块；

收卷模块，用于收卷膜面。

2.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述第一沉积模块、第二沉积模块中每组镀液槽之间设置有浮动张力检测与控制系统，用于检测和调节前段的膜面的张力，每组镀液槽为相邻的两个镀液槽。

3.根据权利要求1或2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述第一沉积模块、第二沉积模块中每个镀液槽设置有固定张力检测与控制系统，用于检测和调节前段的膜面的张力。

4.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述第一沉积模块设置有1～10个预镀镀液槽，膜面经输送辊依次通过预镀镀液槽。

5.根据权利要求2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述第二沉积模块设置有2～40个增厚镀液槽，膜面经输送辊依次通过增厚镀液槽。

6.根据权利要求4所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述预镀镀液槽内的阴极棍直径50-200mm，预镀镀液槽的液位面以下的膜面的长度为500～1400mm，阳极板距离膜面的距离10-100mm，阴极棍和膜面切线处和液面距离50-200mm。

7.根据权利要求6所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述预镀镀液槽内的阴极棍直径100-150mm。

8.根据权利要求7所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述预镀镀液槽内的阳极棍设置为可溶性阳极且阴阳极面积比大于2或不溶性阳极且阴阳极面积比大于0.4。

9.根据权利要求5所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述增厚镀液槽内的阴极棍直径130-200mm，增厚镀液槽的液位面以下的膜面长度为800-2000mm，阳极板距离膜面的距离20-100mm，阴极棍与页面距离100-400mm。

10.根据权利要求9所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述增厚镀液槽内的阳极棍设置为可溶性阳极且阴阳极面积比大于2或不溶性阳极且阴阳极面积比大于0.4。

11.根据权利要求2所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述镀液槽包括不溶性阳极金属钛板构成的镀液槽，所述金属钛板的正反面或正面二氧化铱镀层，且反面黏贴有耐腐蚀性的非导电材料。

12.根据权利要求11所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述金属钛板结构包含不限于平板状，网状和瓦楞状；或采用可溶性阳极钛篮与阳极袋相结合配置磷铜球。

13.根据权利要求1所述的一种超薄薄膜电化学沉积系统，其特征在于：所述放卷模块、前处理模块，第一沉积模块，第二沉积模块，清洗模块，保护层沉积模块，后处理模块，收卷模块，分为多段独立张力控制段，每段独立张力控制段之间设置有浮动张力调节机构。