[实用新型]一种真空清洗专用清洗架

权利要求书

1.一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：包括主体支架组件、挡网（2）和格栅（7），挡网（2）设置在主体支架组件的顶部，挡网（2）一端通过转轴铰接在主体支架组件上，主体支架组件内设有多组竖向设置的立撑（4）和至少一层格栅（7），格栅（7）水平安装在立撑（4）上。

2.根据权利要求1所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的挡网（2）设有左右对称设置的两组，两组挡网（2）内侧分别通过转轴（6）连接主体支架组件顶部的中间横梁。

3.根据权利要求2所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的挡网（2）呈L型设置，两组挡网（2）分别设置在主体支架组件顶部相对的两个直角上。

4.根据权利要求1所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的主体支架组件包括支架（1）、立撑（4）和底座（3），支架（1）底部连接底座（3），立撑（4）下部连接底座（3）。

5.根据权利要求4所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的底座（3）内设有滑轨（301），立撑（4）的下部插入滑轨（301）内，立撑（4）上部滑动连接支架（1）上部侧边。

6.根据权利要求5所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的立撑（4）的下部设有滑轮，且滑轮安装在滑轨（301）上。

7.根据权利要求1所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的挡网（2）外侧边上设有防烫把手（5）。

8.根据权利要求1所述的一种真空清洗专用清洗架，其特征在于：所述的立撑（4）上设有多个竖向排布的挂钩（401）。