[实用新型]等离子表面处理装置

说明书

本实用新型涉及一种等离子表面处理装置。等离子表面处理装置，包括：箱体、以及电极板，电极板包括置于箱体内的间隔设置的正极板和负极板，正极板和负极板之间形成用于放置一层工件的工作位。或，包括：箱体、以及间隔设置在箱体内的电极板，两个相邻电极板的极性相反，且相邻电极板之间形成用于放置一层工件的工作位。具有提高工件表面处理均匀度的优点。

技术领域

本实用新型涉及工件表面处理技术领域，特别是涉及一种等离子表面处理装置。

背景技术

工件表面处理例如包括等离子镀膜和等离子表面处理。

等离子镀膜(plasma deposition、plasma coating)是通过对气体分子或原子进行电离产生离子，并在电磁场的作用下使离子沉积在固体表面形成膜(等离子镀膜)。

等离子表面处理(plasma treatment)是通过对气体分子或原子进行电离产生离子，并在电磁场的作用下使离子轰击到固体表面，对固体表面进行清洗同时改变固体表面的化学性质。等离子表面处理包括：等离子清洗(plasma cleaning)、等离子表面改性(plasma surface modification)。

传统的等离子镀膜或等离子表面处理装置存在以下缺陷，即装置内不同放置位置的工件其表面处理的效果不均匀。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述的工件表面处理不均匀的问题，提供一种等离子表面处理装置。

一种等离子表面处理装置，包括：

箱体；以及

电极板，所述电极板包括置于所述箱体内的间隔设置的正极板和负极板，所述正极板和负极板的其中一种至少有两个，所述正极板和所述负极板之间形成用于放置一层工件的工作位。

在其中一个实施例中，所述箱体内依次间隔设置多组正极板和所述负极板，所述正极板和所述负极板交替设置。

在其中一个实施例中，所述箱体为金属材料制成，且所述箱体接地。

在其中一个实施例中，沿所述正极板和所述负极板的排布方向，靠近箱体的所述电极板中至少有一个是正极板。

在其中一个实施例中，所述箱体为金属材料制成，靠近所述箱体的电极板与所述箱体间隔设置，且靠近所述箱体的电极板中至少有一个是正极板，且所述箱体接地以使箱体能够作为一个电极板。

一种等离子表面处理装置，包括：

箱体；以及

间隔设置在所述箱体内的电极板，两个相邻电极板的极性相反，且相邻电极板之间形成用于放置一层工件的工作位。

在其中一个实施例中，所述电极板为复合板，所述电极板包括绝缘板和分别设置在所述绝缘板两侧的金属板。

在其中一个实施例中，所述每个电极板上两侧的金属板通中频(AC)或射频(RF)交流电后电性相同或相反，且相邻的电极板中相对的面的金属板的电性相反。

在其中一个实施例中，所述电极板上设置有通孔。

在其中一个实施例中，所述金属板厚度为0.1mm-60mm，所述绝缘板的厚度为0.1mm-400mm；

所述箱体为金属材料制成，且所述箱体接地以使箱体能够作为一个电极板。

有益效果：通过在相邻的电极板之间放置一层工件，这样在进行表面处理时，离子直接作用在工件表面，不会存在工件与工件相互遮挡的情况，大大提高了镀膜效率、大大提高了工件表面处理的均匀度。

附图说明

图1为本申请第一实施例中的等离子表面处理装置的结构示意图；