[实用新型]一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置

权利要求书

1.一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，包括座体（1），座体（1）上开设有通孔（2），座体（1）上通孔（2）的上方设有工作平台（3），工作平台（3）通过圆周均布的斜筋连接在座体（1）的上端面，通孔（2）的上端设有第一滤网（4），通孔（2）的下端设有第二滤网（5），第二滤网（5）与座体（1）之间为可拆卸连接，第一滤网（4）的滤孔大小大于第二滤网（5）的滤孔，座体（1）的一侧设有第一凸台（6），第一凸台（6）上设有水喷头（7）。

2.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的座体（1）的外侧壁上设有第二凸台（8），第二凸台（8）与第一凸台（6）错位布置，第二凸台（8）上设有气喷头（9），水喷头（7）和气喷头（9）均朝向工作平台（3）设置。

3.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的座体（1）的上端端面设有锥形坡口（10），通孔（2）的上端与座体（1）的上端边缘部位通过锥面连接。

4.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的第二滤网（5）的外圆直径略小于通孔（2）的直径，实现第二滤网（5）可插入通孔（2）内，且第二滤网（5）的边缘与通孔（2）内壁相贴合的结构，座体（1）的下端面铰接有多个可转动的卡块（11），卡块（11）经转动可卡在第二滤网（5）的下端面实现对滤网的定位效果，当卡块（11）脱离第二滤网（5）下端面后，第二滤网（5）可从通孔（2）内拿出。

5.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的座体（1）的下端设有多个支腿（12）。

6.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的第一滤网（4）和第二滤网（5）之间的距离为5-8cm,通孔（2）的深度不小于第一滤网（4）与第二滤网（5）之间的距离。

7.根据权利要求1所述的一种用于全瓷氧化锆加工的散热装置，其特征在于，所述的水喷头（7）及气喷头（9）与工作平台（3）的竖直距离为10-15cm，水平距离不小于10cm。