[实用新型]一种无掩光刻镜头对焦系统

说明书

本实用新型提供了一种无掩光刻镜头对焦系统，包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块；分光镜用于将光源出射的输出光线透射到反射型光调制器上，以及用于将反射型光调制器反射的测试光线反射向光强测试模块；反射型光调制器设置在光刻镜头的一焦平面上；反射型光调制器用于将分光镜透射的输出光线反射到光刻镜头中，以及用于将光刻镜头聚焦的测试光线反射向分光镜；光刻镜头用于将反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上，以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至反射型光调制器；光强测试模块用于测试光强，实现对无掩光刻镜头进行快速对焦，提高无掩光刻镜头对焦精度以及减少显影耗材消耗。

技术领域

本实用新型属于光刻技术领域，更具体地说，是涉及一种无掩光刻镜头对焦系统。

背景技术

随着集成电路产业朝着低成本和高集成度的方向发展，无掩模技术也成为光刻技术发展的必然要求。相较于传统的有掩模技术，无掩模技术不仅能省去掩模板，降低光刻成本和复杂度，而且能提供更高的分辨率和灵活性。基于DMD器件的数字光刻技术自问世以来，一直受到工业界众多公司的青睐，它通过编程控制DMD器件直接对照明光束进行调制，形成不同的图形投影在衬底上完成曝光。现阶段的数字光刻技术一般通过以下步骤来定位焦平面的位置：

步骤一：按给定镜头工作距机械定位焦面位置；

步骤二：将感光样片放在该位置及附近进行实际成像，记录每个成像位置与初始位置的相对距离；

步骤三：用显微镜观察感光样片上的图像，对比成像结果，找到清晰度最高的图像，将成像位置定义为新的初始位置；

步骤四：重复步骤二、三，直到找到最清晰的图像，且相对该位置两侧的对称距离的成像效果一致，则判定该位置为焦平面的位置。

通过以上步骤来进行定位焦平面的位置有以下缺点：

1、需要反复多次成像测试，甚者需要显影成像，找到焦平面的位置才更准确，浪费显影耗材。

2、需要进行多次对比测试，测试时间长；人的主观因素会影响测试结果，且对仪器使用熟练度不同，也会影响测试精度。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种无掩光刻镜头对焦系统，以解决现有技术中存在的浪费显影耗材、测试时间长以及人的主观因素会影响测试结果技术的问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：提供一种无掩光刻镜头对焦系统，包括光源、分光镜、反射型光调制器、光刻镜头以及光强测试模块；所述分光镜用于将所述光源出射的输出光线透射到所述反射型光调制器上，以及用于将所述反射型光调制器反射的测试光线反射向所述光强测试模块；

所述反射型光调制器设置在所述光刻镜头的一焦平面上；所述反射型光调制器用于将所述分光镜透射的输出光线反射到所述光刻镜头中，以及用于将所述光刻镜头聚焦的测试光线反射向所述分光镜；

所述光刻镜头用于将所述反射型光调制器反射的输出光线聚焦到感光基板上，以及用于将感光基板反射的测试光线聚焦至所述反射型光调制器；

所述光强测试模块用于测试光强。

进一步地，所述光刻镜头、所述分光镜以及所述光源同时位于所述反射型光调制器的一受光侧，所述分光镜和所述反射型光调制器依次设置所述光源的输出光线上。

进一步地，还包括活动平台，所述光源、所述反射型光调制器和所述光刻镜头固定不动，所述活动平台用于带动感光基板远离或靠近所述光刻镜头。

进一步地，还包括运动平台，所述运动平台用于将所述光源、所述反射型光调制器和所述光刻镜头同步远离或同步靠近感光基板。