[实用新型]一种镀膜均匀的真空镀膜装置

说明书

本实用新型公开了一种镀膜均匀的真空镀膜装置，其技术方案要点是：包括安装架，所述安装架的上端固定有镀膜桶，所述镀膜桶的顶端固定有桶盖，所述桶盖的上端固定有伺服电机，所述伺服电机的输出轴固定有第一连接轴，所述第一连接轴的下端固定有第一转盘，所述第一转盘转动连接有三个转轴，所述转轴上固定有若干安装杆，所述安装杆上固定有若干挂钩，所述转轴的下端转动连接有第二转盘，所述转轴的下端端部固定有第一齿轮，所述第一齿轮的一侧啮合传动连接有第二齿轮，所述第二齿轮固定在镀膜桶的内部中心处，所述镀膜桶的一侧侧壁铰接有桶门。通过上述结构实现镀膜产品在镀膜桶内多方向旋转，大大提高镀膜均匀度。

技术领域

本实用新型涉及一种真空镀膜装置，特别涉及一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

背景技术

真空镀膜是一种产生薄膜材料的技术。在真空沉积腔室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上。真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物(称靶材)进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体(称基材)上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

真空镀膜需要把待镀膜的产品放置到密闭的镀膜桶内，然后在镀膜桶内进行镀膜，现有的镀膜桶内只是把产品放置到桶内，产品在桶内是静止不动的，导致产品表面的镀膜往往不均匀，影响产品的镀膜质量，为此，需要设计一种镀膜均匀的真空镀膜装置。

实用新型内容

针对背景技术中提到的问题，本实用新型的目的是提供一种镀膜均匀的真空镀膜装置，以解决背景技术中提到的问题。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种镀膜均匀的真空镀膜装置，包括安装架，所述安装架的上端固定有镀膜桶，所述镀膜桶的顶端固定有桶盖，所述桶盖的上端中间固定有伺服电机，所述伺服电机的输出轴端部通过联轴器固定有第一连接轴，所述第一连接轴的下端端部固定有第一转盘，所述第一转盘的外侧四周转动连接有三个转轴，三个所述转轴等角度的分布在第一转盘上，所述转轴上均匀的固定有若干安装杆，所述安装杆上均匀的固定有若干挂钩，所述转轴远离第一转盘的一端转动连接有第二转盘，所述第二转盘与镀膜桶的内部底端转动连接，所述转轴的下端端部贯穿第二转盘并延伸至其下方，所述转轴的下端端部固定有第一齿轮，所述第一齿轮的一侧啮合传动连接有第二齿轮，所述第二齿轮的下端中心处固定有第二连接轴，所述第二连接轴的下端固定在镀膜桶的内部中心处，所述镀膜桶的一侧侧壁开设有开口，所述开口处铰接有桶门。

较佳的，所述桶门远离铰接处的一端中间外侧固定有把手。

通过采用上述技术方案，方便用手通过把手打开桶门，实现从镀膜桶内取放产品，方便工作。

较佳的，所述桶门远离把手的一侧四周粘贴有密封圈，所述密封圈与镀膜桶的桶壁紧密接触。

通过采用上述技术方案，密封圈的设置使桶门关闭状态时，桶门的里面与镀膜桶的桶壁紧密接触，避免镀膜材料从桶门和桶壁之间的间隙泄漏到外界大气中造成环境污染，起到密封作用。

较佳的，所述第二转盘的下端四周设置有一圈圆形滑轨，所述圆形滑轨内滑动连接有圆形滑块，所述圆形滑块固定在镀膜桶的内部底端。

通过采用上述技术方案，减小第二转盘与镀膜桶之间转动的摩擦力，降低能源消耗，提高装置的使用寿命。

较佳的，所述伺服电机的外侧设置有保护罩，所述保护罩固定在桶盖的上端。

通过采用上述技术方案，保护罩的设置把伺服电机与外界隔离开，避免外界异物碰撞到伺服电机，起到隔离、保护作用。

较佳的，所述安装架的下端四角位置均固定有自锁万向轮。