[实用新型]一种利用滑块导轨导向的二面真空压包整形机构

权利要求书

1.一种利用滑块导轨导向的二面真空压包整形机构，其包括真空罩以及设置在真空罩下方的固定整形板，所述真空罩可与固定整形板闭合形成具有密闭内部腔体的真空室，其特征在于：所述真空罩由多个侧板和一个底板围成的具有一端开口的罩体结构，所述固定整形板设置在该开口的下方，所述真空罩内设有与固定整形板相平行的活动整形板，所述真空罩的内侧壁上设有多条与活动整形板相垂直的滑轨，活动整形板的侧边上对应滑轨固定设有滑块，所述滑块滑动设置在滑轨上，所述真空罩上设有活动整形板驱动气缸，所述活动整形板驱动气缸的缸体固定在真空罩上，活动整形板驱动气缸的活塞杆穿过真空罩与活动整形板连接，活动整形板驱动气缸驱动活动整形板沿滑轨向固定整形板移动对包装袋进行二面压包整形。

2.根据权利要求1所述的一种利用滑块导轨导向的二面真空压包整形机构，其特征在于：所述滑轨设置在活动整形板的两侧，活动整形板的两侧侧边上分别设有与滑轨对应的滑块。

3.根据权利要求1所述的一种利用滑块导轨导向的二面真空压包整形机构，其特征在于：所述活动整形板的两侧分别设有两组滑轨，活动整形板两侧的侧边上对应设有两组滑块。