[实用新型]一种纳米粉料专用可调节气流整流装置

说明书

一种纳米粉料专用可调节气流整流装置，包括套筒、调节环、调节环齿轮、调节环压块和旋转机构，调节环水平设置在套筒外侧上部，齿轮设置在套筒外侧调节环内，调节环压块均匀设置在套筒外侧，旋转机构设置在套筒外侧齿轮上部；所述的套筒为垂直设置的圆筒形结构，套筒的外侧上部设置有法兰盘形的气流盘；通过本实用新型的实施，达到了良好的使用效果：纳米粉料专用可调节气流整流装置通过在套筒气流盘上设置有成组的过流孔与上部调节环配合，通过齿轮与调节环调节通槽内调节齿啮合，实现了对通过气流的准确调整，给调节气流带来的很大的便利，有效的保证了纳米粉料的生产质量，给企业带来了更好的效益。

技术领域

本实用新型涉及纳米材料制造领域，尤其涉及一种纳米粉料专用可调节气流整流装置。

背景技术

随着制造行业的快速发展，原材料的使用升级也随之技术的进步不断的发展，特别是随着制造制造业和电子技术的应用进入微离子时代，原材料进入到更加微小的纳米级别，纳米粉料的应用得到了越来越广泛的应用，纳米粉料的制造常用的方法是采用电磁感应加热燃烧生产，在纳米粉体制备过程中，送粉气、离子气、内冷气流和粹冷气流量影响等离子体火焰的形状，从而影响纳米粉体的成粉质量，如果只是通过调整进气阀门来调整气流量，在气流整流环上部会形成气压的不稳，造成气流不均匀，对成粉质量影响很大，现有的方法是通过在气体整流环上钻不同数量的气孔来达到气流控制的目的，气流无法进行准确控制；因此，需要一种装置来解决现有的气体整流环通过钻孔的数量来达到调整气流从而导致气流无法根据情况合理调节的问题。

实用新型内容

本实用新型提出了一种纳米粉料专用可调节气流整流装置，用于解决现有的气体整流环通过钻孔的数量来达到调整气流从而导致气流无法根据情况合理调节的问题。

本实用新型的目的可采用如下技术方案来实现：

一种纳米粉料专用可调节气流整流装置，包括套筒、调节环、调节环齿轮、调节环压块和旋转机构，调节环水平设置在套筒外侧上部，齿轮设置在套筒外侧调节环内，调节环压块均匀设置在套筒外侧， 旋转机构设置在套筒外侧齿轮上部；所述的套筒为垂直设置的圆筒形结构，套筒的外侧上部设置有法兰盘形的气流盘，气流盘上面均匀成组设置有过流孔，套筒的气流盘上部外圆一侧水平设置有齿轮轴耳板，气流盘每组过流孔之间的外圆上设置有内凹的压块固定槽，压块固定槽内侧面上设置有压块螺纹孔；所述的调节环为圆环形的薄片，调节环的内孔与套筒气流盘上部外圆间隙配合，调节环的下面与气流盘上面接触，调节环上面与每组过流孔对应位置设置有弧形的节流通槽，调节环上面一侧的两个节流通槽之间设置有与节流通槽结构相似的调节通槽，调节通槽内外侧面上设置有调节齿。

所述的齿轮为直齿轮，齿轮的外齿与调节环调节通槽内的调节齿啮合，齿轮上部齿轮轴穿过上部齿轮轴耳板。

所述的旋转机构为小型的蜗轮蜗杆减速机构，旋转机构的蜗杆轴外端设置有手柄，旋转机构的蜗轮轴与齿轮上齿轮轴上端连接。

所述的每组过流孔由紧邻二到四个的通孔构成，过流孔所有通孔位于调节环节流通槽内。

所述的调节环压块为倒置的“L”形压板，调节环压块与套筒气流盘外圆上压块固定槽配合安装，调节环压块外侧上设置有有沉孔，沉孔内设置有固定螺栓，固定螺栓与压块固定槽内压块螺纹孔位置对应并固定连接，调节环压块内侧上面与调节环上面边缘接触，调节环压块的外侧面低于气流盘外圆。

通过本实用新型的实施，达到了良好的使用效果：纳米粉料专用可调节气流整流装置通过在套筒气流盘上设置有成组的过流孔与上部调节环配合，通过齿轮与调节环调节通槽内调节齿啮合，实现了对通过气流的准确调整，给调节气流带来的很大的便利，有效的保证了纳米粉料的生产质量，给企业带来了更好的效益。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图。

图2为图1的俯视图。

图3为图1中调节盘的俯视图。