[实用新型]真空磁控溅射镀膜机

说明书

本实用新型公开了一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空室，所述真空室上设置有门体，所述真空室上开设有抽气口，所述真空室外设置有与所述抽气口连通的抽气系统，所述门体转动设置在所述真空室上，所述真空室上设置有驱动所述门体从所述真空室上打开的驱动件，所述驱动件包括固定设置在所述真空室上的气缸、以及设置于所述气缸活塞杆上的推动板，所述推动板与所述门体朝向所述真空室的侧壁抵紧。本实用新型具通过设置驱动件，当镀膜工作完成需要将基片取出的时候，工作人员通过控制气缸，即可将门体从真空室推动开来，继而方便将门体打开。当真空室内的真空度不够高时，关闭高真空阀门并停止油扩散泵工作，从而能够保护设备。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机的技术领域，尤其是涉及一种真空磁控溅射镀膜机。

背景技术

真空镀膜机根据镀膜工艺原理大概分为以下几种：真空蒸发镀膜机，真空磁控溅射镀膜机，多弧离子镀镀膜机等。其中真空磁控溅射镀膜机主要利用辉光放电将氩气离子撞击靶材表面，电浆中的阳离子会加速冲向基片的负极表面，这个冲击将使靶材的原子被弹出而沉积在基片上形成薄膜。

现有的授权公告号为CN206692724U公开的一种中国专利公开了一种真空磁控溅射镀膜机，包括抽气系统、真空室、真空室门、设置在真空室中用于放置镀膜基片的工件转架以及设置在真空室中的磁控溅射装置，其中该磁控溅射装置包含与真空室固定连接的磁控靶法兰。真空室上开设有抽气口，抽气系统与抽气口相连。

工作的时候，抽气系统将真空室内的气体抽走，从而使得真空室内持续处于负压真空状态，从而保证了基片镀膜的质量。当工作结束后，工作人员需要将真空室门打开，将基片从真空室内取出；真空室内长期处于负压状态，所以真空室门打开困难。

实用新型内容

针对上述现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于是提供一种真空磁控溅射镀膜机，能够方便将门体从真空室上打开。

本实用新型的上述发明目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种真空磁控溅射镀膜机，包括真空室，所述真空室上设置有门体，所述真空室上开设有抽气口，所述真空室外设置有与所述抽气口连通的抽气系统，所述门体转动设置在所述真空室上，所述真空室上设置有驱动所述门体从所述真空室上打开的驱动件，所述驱动件包括固定设置在所述真空室上的气缸、以及设置于所述气缸活塞杆上的推动板，所述推动板与所述门体朝向所述真空室的侧壁抵紧。

通过采用上述技术方案，当基片被镀膜完成需要将基片从真空室取出的时候，一方面使得抽气系统与真空室外的抽气口断开连接，另一方面启动气缸，气缸驱动活塞杆朝向门体的方向移动，驱动推动板推动门体朝向背对真空室的方向移动，最终将门体从真空室推动开来，然后方便将基片从真空室中取出。通过设置驱动件，当镀膜工作完成需要将基片取出的时候，工作人员通过控制气缸，即可将门体从真空室推动开来，继而方便将门体打开。

本实用新型进一步设置为：所述推动板与所述气缸的活塞杆转动连接。

通过采用上述技术方案，对基片进行镀膜的时候，门体盖合在真空室上，然后转动推动板，使得推动板不与门体朝向真空室的侧壁抵紧，然后启动气缸，使得气缸驱动推动板朝向背对真空室的方向移动，然后转动推动板，使得推动板靠近气缸活塞杆的侧壁与门体远离真空室的侧壁抵紧，最终推动板在气缸的带动下朝向门体施加压力，使得门体对真空室的正压力增大，从而使得门体与真空室之间的密封性更强。

本实用新型进一步设置为：所述真空室上开设有出件口，所述门体设置在所述出件口处，所述门体上设置有嵌设在所述出件口内的内盖体，所述内盖体和所述出件口的盖合处设有用于密封所述内盖体与所述出件口之间空隙的密封组件，所述密封组件包括固定设置于所述内盖体上的环形凸块、以及开设于所述出件口上且与所述环形凸块配合的环形凹槽。