[实用新型]一种应用于真空腔体研磨工艺的电解槽

说明书

本实用新型公开了一种应用于真空腔体研磨工艺的电解槽，包括电解槽本体和直流电源，直流电源设有正极和负极，所述电解槽本体包括真空腔体的固定装置、电解液的搅拌装置以及检测控制装置；直流电源的阳极与固定在电解槽中的阳极金属片电连接，直流电源的阴极与固定在电解槽中的阴极金属片电连接；所述固定阳极金属片的侧壁与电解槽本体之间设有缓冲腔，电解槽本体另一侧壁设有电解液的进液口和出液口，所述电解槽本体的底部向下凸起。本实用新型提供一种固定真空腔体效果好，自动化程度高，使用方便，安全可靠，电解效果好的电解槽。

技术领域

本实用新型涉及电解腐蚀装置技术领域，具体涉及一种应用于真空腔体研磨工艺的电解槽。

背景技术

电化学加工是一种特种加工工艺技术，利用电解研磨工艺是的接在阳极的真空腔体溶解达到去除表面材料的目的，不受金属的硬度、强度和韧性的限制。目前，普通的电解工艺采用的方法是将真空腔体静态浸泡在电解槽的液体中，进行电解，但由于电解过程中产生的氢氧混合气体无法及时排除，往往影响电解效果，尤其是进行真空腔体内部的研磨工艺，被气体挤占的区域往往电解效果不佳。并且由于真空腔体体积较大，因此将真空腔体稳定的固定在电解槽内也是一个重要的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于，克服现有技术中存在的缺陷，提供一种固定真空腔体效果好，自动化程度高，使用方便，安全可靠，电解效果好的电解槽。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种应用于真空腔体研磨工艺的电解槽，包括电解槽本体和直流电源，直流电源设有正极和负极，所述电解槽本体包括真空腔体的固定装置、电解液的搅拌装置以及检测控制装置；直流电源的阳极与固定在电解槽中的阳极金属片电连接，直流电源的阴极与固定在电解槽中的阴极金属片电连接；所述固定阳极金属片的侧壁与电解槽本体之间设有缓冲腔，电解槽本体另一侧壁设有电解液的进液口和出液口，所述电解槽本体的底部向下凸起。

所述真空腔体体积大，真空腔体本身带有法兰连接孔，根据真空腔体的结构特点，设计真空腔体的固定装置，通过固定装置将真空腔体与阳极金属片紧密连接，所述固定装置的材料也可以与阳极金属片的材料相同。所述阳极金属片可以为倒U型金属盘管。

作为优选的技术方案，真空腔体的固定装置包括电机、伸缩杆和加持柱，电机固定于缓冲腔内，电机与伸缩杆一端连接并且带动伸缩杆运动，伸缩杆另一端与加持柱连接，伸缩杆水平穿过设有阳极金属片的电解槽本体的侧壁，伸缩杆与侧壁的连接处设有密封圈；加持柱位于电解槽本体的内部，加持柱位于阳极金属片的左右两侧。

由于真空腔体表面设有多个连接孔，因此设计柱状连接结构，通过真空腔体的固定装置将真空腔体固定，有效的避免真空腔体表面被磨损。

作为优选的技术方案，所述检测控制装置包括位于电解槽本体底部的压力传感器，位于电解槽本体顶部的气压传感器和位于电解槽外部的控制器，所述压力传感器和气压传感器分别于控制器电连接。

作为优选的技术方案，电解槽本体底部固定有电解液的搅拌装置，所述搅拌装置是搅拌桨，所述搅拌装置于控制器电连接。所述搅拌装置使得混合酸得到充分混合，并且使得电解产生的金属屑集中在电解槽本体底部的最低端。

作为优选的技术方案，电解槽本体底部设有若干槽孔，槽孔内安插有支撑柱，支撑柱的高度高于搅拌装置的高度。电解槽本体底部设有若干槽孔，槽孔内安插支撑柱，支撑柱根据不同腔体的体积进行适应性安装。

作为优选的技术方案，所述电解槽本体底部设有排污阀，电解槽本体顶部设有排气阀。

作为优选的技术方案，所述检测控制装置还包括位于电解槽中部的温度传感器和酸度传感器和为电解槽外部的控制器。

所述电解槽本体底部的压力传感器与控制器电连接，所述控制器与电解槽本体底部的排污阀电连接；当电解槽本体内积累的杂质过多，通过控制器控制自动打开排污阀。